[发明专利]将不可见标记应用于介质上的方法有效
申请号: | 200680004989.7 | 申请日: | 2006-02-15 |
公开(公告)号: | CN101120384A | 公开(公告)日: | 2008-02-06 |
发明(设计)人: | 弗雷德里克·乔丹;马丁·库特;尼古拉斯·鲁达茨 | 申请(专利权)人: | 艾普维真股份有限公司 |
主分类号: | G07D7/20 | 分类号: | G07D7/20;B42D15/10 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 党建华 |
地址: | 瑞士*** | 国省代码: | 瑞士;CH |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 将不 可见 标记 应用于 介质 方法 | ||
技术领域
本发明包含将鉴别标记放在介质上以便检测所述介质的拷贝和伪造的领域,后者是文档或包裹,可能由纸或纸板制成,但不限于这些材料。标记也通过存储真实文档的校验和,阻止未授权修改文档的尝试,也可以通过插入标识码,跟踪和追踪产品。
背景技术
在发明领域中,能发现两种标记,即:
-可见标记
该标记用于由消费者本人或授权的经销商,通过可视地校验该标记的存在,鉴别具有该标记的介质。能在纸币上发现这种技术,包括水印、3D全息图、小孔、金属线和具有特殊光学属性的墨水。
-不可见标记
不可见意味着肉眼不可辨别。这些标记隐藏在产品的表面上,以致仿造者不了解该标记的存在。
本发明仅集中在不可见标记上。
在文献WO02/25599中描述了用于施加这种标记的已知技术,其中,使用墨水来创建对应于该标记的对称或不对称调制。
形成标记基于使用分布在将标记的表面上的非常小的结构,例如以点的形式(例如10至80μm)。由用来将结构添加到该介质上,例如通过结合半色调打印的方法而定,必须特别考虑有关创建具有超出100μm的大小的聚集点。在一些情况下,这些聚集可能是所需特性(例如,具有非常低的反差墨水,如清漆)或不期望的特性(例如具有较高反差墨水)。
当与标记同时打印图像时,能使用对称方法。通过由初始设计增加或减去点,调制颜色以便形成标记。不同的实施例可以修改用来打印标记的色素或墨水的光谱反射率组成。
非对称方法具有更少限制以及例如,能用在打印图像时、打印图像前或甚至在稍后阶段通过附加打印。该方法例如通过打印有色点,基本上存在增加局部对比度,以便在空白区、具有均匀颜色的区域或包含装饰图像的区域上形成标记。
即使这些方法满足许多应用,在非常大的生产量的情况下,能注意到由于用于非常大的生产量的调度打印方法具有限制,诸如最大打印速度的事实,实现发明非常困难。
发明内容
应用不可见标记的本发明通过特别适用于大生产量的方法,解决该问题。
本发明涉及一种用于通过基于干燥后能凝固的液体物质的沉积的任何工业印刷技术,基于在材料的表面上增加伪随机缺陷,以肉眼不可见的方式施加标记,鉴别和跟踪工业印刷材料的方法,所述物质修改所述材料的至少一个光学特性,所述缺陷具有从10至500微米的单个大小以及基于表示由密钥初始化的伪随机数字二维图形的标记的有效点的单个位置,通过测量将所述图形与印刷材料的数字二维数字图像互相关获得的二维数字信号的信噪比,在稍后时间检测所述标记。
该物质修改反射光的特性。其能采用墨水、清漆、胶水或塑料涂层的形式。如果该物质是透明的,将不影响介质上的底层图像。
在本发明的一个实施例中,所计算的标记具有非常特定的自相关属性,便于在仿射变换后恢复。
当使用清漆时,在将图像施加在介质上后,在后一期间操作施加它。清漆能采用提供强发光透明涂层的树脂溶液的形式。
当施加该涂层时,修改该应用过程以便在透明层上产生不规则性(似乎为“缺陷”)。这些不规则性是与标记(特别是与有效点)的调制结果,它们对应于表面反射率的小的局部变化。
当使用墨水时,该缺陷通常将引入为均匀涂层区中的局部和稍微缺少或过剩墨水。因此,这些缺陷将分别对应于亮度的局部增加或局部减小。
在下文中,将使用术语“物质”来统称墨水或清漆。
该方法的主要优点是伪造者具有大的难度来通过标准方法,诸如高分辨率扫描仪和打印机仿造或复制调制涂层,因为扫描仪或打印机将不允许解决和复制反射率、亮度或颜色的这种稍微变化。
本发明的目的是调制介质的外部表面来嵌入标记,而不可视地修改介质的颜色,以及以该调制出现为自然想到的变形或缺陷的方式。即使优选实施例由在其应用期间调制涂层组成,其他实施例能用于应用标记,例如通过压力,通过激光或雕刻。
附图说明
由于附图,将更好理解本发明,其作为非限制例子,其中:
图1表示物质的正负调制,
图2a和2b表示在有效点的位置,具有完全移出区的改进物质层,
图3表示在有效点的位置,具有降低厚度的物质层,
图4表示如下所述的凹版印刷方法,
图5a和5b表示调制物质厚度的另一例子,
图6表示避免标记和未标记区间的反射率的任何差异的方法,
图7至10表示光与调制涂层相互作用的各种方法,
图11表示在检测过程期间的互相关因素的变化,
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