[发明专利]细粒状二氧化钛及其制造方法和用途

权利要求书

1.二氧化钛，其最大粒径D_最大与平均粒径D₅₀之间的比率D_最大/D₅₀为1至3，其中D_最大和D₅₀是基于用场致发射型扫描电子显微镜观察初级粒子而测得的。

2.根据权利要求1的二氧化钛，其中D_最大/D₅₀为1至2。

3.根据权利要求1或2的二氧化钛，其中D₅₀为5至200纳米。

4.根据权利要求1至3任一项的二氧化钛，其中该二氧化钛中的氯含量为0.001质量％至0.2质量％。

5.根据权利要求1至4任一项的二氧化钛，其中该二氧化钛中各元素Si、Al、Fe和S的含量为0.0001质量％至0.01质量％。

6.根据权利要求1至5任一项的二氧化钛，其中该二氧化钛的锐钛矿含量为50％或更高。

7.根据权利要求6的二氧化钛，其中锐钛矿含量为60％或更高。

8.根据权利要求7的二氧化钛，其中锐钛矿的百分比含量为90％或更高。

9.根据权利要求1至8任一项的二氧化钛，其中在通过场致发射型扫描电子显微镜观察的初级粒子的粒度分布中，根据下列Rosin-Rammler公式的分布常数n为3或更高：

R＝100exp(-bDⁿ)

其中D是粒径，R是大于D(粒径)的粒子数占所有粒子数的百分比，n是分布常数。

10.制造如权利要求1至9任一项所述的二氧化钛的方法，该方法包括进行使含四氯化钛的气体与氧化气体反应以产生二氧化钛的气相法，其中当通过将所述含四氯化钛的气体和所述氧化气体引入反应管而使各气体反应时，反应管中的温度为1050至低于1300℃。

11.根据权利要求10的二氧化钛制造方法，其中在将含四氯化钛的气体和氧化气体引入反应管时，反应管的横截面积(S1)与含四氯化钛的气体和氧化气体的引入管的横截面积总和(S2)的比率(S1/S2)为1至2.5。

12.根据权利要求11的二氧化钛制造方法，其中比率S1/S2为1至1.5。

13.根据权利要求10至12任一项的二氧化钛制造方法，其中在通过气相法合成二氧化钛时，通过四氯化钛与氧化气体的反应制成的二氧化钛在反应管中停留0.005至0.08秒的平均停留时间。

14.根据权利要求10至13任一项的二氧化钛制造方法，其中在通过气相法合成二氧化钛时，含四氯化钛的气体和氧化气体各自在通往反应管的入口部分处的流速为30至150米/秒。

15.根据权利要求10至14任一项的二氧化钛制造方法，其中将含四氯化钛的气体和氧化气体各自在600℃至低于1200℃预热，然后引入反应管。

16.根据权利要求10至15任一项的二氧化钛制造方法，其中在原料气体与每摩尔四氯化钛1至150当量的量的氧化气体之间进行反应，所述原料气体是通过将惰性气体以每摩尔四氯化钛100摩尔或更低的比率混合而制成的。

17.根据权利要求10至16任一项的二氧化钛制造方法，其中所述氧化气体是含水蒸气的氧气。

18.根据权利要求17的二氧化钛制造方法，其中所述氧化气体含有每摩尔氧气0.1摩尔或更多的水蒸气。

19.根据权利要求10至18任一项的二氧化钛制造方法，其中通过干脱氯法将二氧化钛脱氯，以获得氯含量为0.2质量％或更低的二氧化钛。

20.根据权利要求19的二氧化钛制造方法，其中所述干脱氯法是在200至550℃加热二氧化钛的方法。

21.根据权利要求19或20的二氧化钛制造方法，其中所述干脱氯法是在200至1000℃加热含水蒸气的气体、同时使该气体与二氧化钛接触的方法。

22.根据权利要求20或21的二氧化钛制造方法，其中基于二氧化钛，以质量比计，水蒸气的量为0.01至1。