[发明专利]包括半导体芯片的组装体及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200680005792.5 申请日: 2006-03-08
公开(公告)号: CN101128925A 公开(公告)日: 2008-02-20
发明(设计)人: 白石司;石丸幸宏;辛岛靖治;中谷诚一;矢部裕成 申请(专利权)人: 松下电器产业株式会社
主分类号: H01L21/60 分类号: H01L21/60
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 汪惠民
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 包括 半导体 芯片 组装 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种组装体,包括半导体芯片和组装上述半导体芯片的组装基板,其特征在于:

在上述半导体芯片中的面朝上述组装基板一侧的芯片表面形成有多个电极端子;

在上述组装基板形成有对应于上述多个电极端子的每一个电极端子的连接端子;

上述组装基板的连接端子与上述电极端子通过自我聚集而成的焊剂凸块而同时电连接;

在上述芯片表面、以及上述组装基板中的对应于该芯片表面的表面的其中至少之一,形成有没有连接在上述电极端子及上述连接端子的电极图案,且在上述电极图案上聚集有焊剂。

2.根据权利要求1所述的组装体,其特征在于:

上述电极端子被配置在上述半导体芯片的上述芯片表面的周缘区域;

上述电极图案形成在上述组装基板中的对应于上述芯片表面的中央区域的区域。

3.根据权利要求1所述的组装体,其特征在于:

上述电极端子在上述半导体芯片的上述芯片表面以二次元排列;

上述电极图案形成在上述芯片表面的中央区域、及对应于该芯片表面的中央区域的上述组装基板的区域的其中至少之一。

4.根据权利要求1所述的组装体,其特征在于:

上述电极图案在形成在上述组装基板的阻焊剂上形成。

5.根据权利要求1所述的组装体,其特征在于:

上述电极端子形成在上述半导体芯片的上述芯片表面的一侧;

在上述芯片表面中的与上述一侧相反的另一侧的区域、以及对应于该另一侧的区域的上述组装基板的区域的其中至少之一形成有上述电极图案。

6.根据权利要求1所述的组装体,其特征在于:

在上述半导体芯片与上述组装基板之间填充有树脂,上述焊剂凸块是由在上述树脂中分散所含的焊剂粉在上述电极端子与上述连接端子之间自我聚集而成的。

7.根据权利要求6所述的组装体,其特征在于:

聚集在上述电极图案上的焊剂是由在上述树脂中分散所含的焊剂粉自我聚集在上述电极图案上而成的。

8.根据权利要求1所述的组装体,其特征在于:

上述电极图案与上述组装基板的连接端子或者上述半导体芯片的电极端子同时形成,且由相同材料构成。

9.一种电子机器,其特征在于:

包括权利要求1到8中任意一项所述的组装体。

10.一种组装体的制造方法,其特征在于:

包括:工序a,准备好具有排列有电极端子的芯片表面的半导体芯片,

工序b,准备好具有连接端子和电极图案的组装基板,该连接端子对应于上述半导体芯片的上述电极端子排列,该电极图案没有与上述连接端子电连接,

工序c,将在树脂中含有焊剂粉而成的焊剂树脂浆提供到上述组装基板上,

工序d,夹着上述焊剂树脂浆将上述半导体芯片配置在上述组装基板上,以及

工序e,通过对上述焊剂树脂浆进行加热,来让上述焊剂树脂浆中的上述焊剂粉自我聚集,从而使上述半导体芯片所具有的电极端子、与对应于上述电极端子而形成在上述组装基板的连接端子同时电连接;

在上述工序e中,剩余的焊剂粉聚集在上述电极图案上。

11.一种组装体的制造方法,其特征在于:

包括:工序a,准备好具有排列有电极端子的芯片表面的半导体芯片,

工序b,准备好具有连接端子的组装基板,该连接端子对应于上述半导体芯片的上述电极端子排列,

工序c,将在树脂中含有焊剂粉而成的焊剂树脂浆提供到上述组装基板上,

工序d,夹着上述焊剂树脂浆将上述半导体芯片配置在上述组装基板上,以及

工序e,通过对上述焊剂树脂浆进行加热,来让上述焊剂树脂浆中的上述焊剂粉自我聚集,从而使上述半导体芯片所具有的电极端子、与对应于上述电极端子而形成在上述组装基板的连接端子同时电连接;

在上述工序a中所准备的上述半导体芯片的上述芯片表面形成有没有与上述电极端子电连接的电极图案,且在上述工序e中,剩余的焊剂粉聚集在上述电极图案上。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于松下电器产业株式会社,未经松下电器产业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200680005792.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top