[发明专利]显示装置及其制造方法有效
申请号: | 200680005823.7 | 申请日: | 2006-02-23 |
公开(公告)号: | CN101128766A | 公开(公告)日: | 2008-02-20 |
发明(设计)人: | N·W·哈古德;J·L·斯泰恩;T·T·布罗斯尼汉;J·甘德希;J·J·菲乔;R·S·佩恩;R·巴顿 | 申请(专利权)人: | 皮克斯特罗尼克斯公司 |
主分类号: | G02B26/02 | 分类号: | G02B26/02;G02B6/132;H04N5/74 |
代理公司: | 北京北翔知识产权代理有限公司 | 代理人: | 谢静;杨勇 |
地址: | 美国马*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示装置 及其 制造 方法 | ||
1.一种形成空间光调制器的方法,该空间光调制器包括由顺性的梁支承的快门,该方法包括:
在一个基片上形成一个模子,其中该模子包括一个下水平表面、一个上水平表面和一个壁;
在该模子的该下水平表面和该壁上沉积一种梁材料;
去除沉积在该模子的下水平表面上的该梁材料,而保留大部分沉积在该模子的壁上的梁材料,以形成该顺性的梁;
形成连接到该顺性的梁上的快门;并且
去除该模子,从而释放该快门和余留的梁材料。
2.如权利要求1所述的方法,其中该模子的下水平表面包括一个第一牺牲层的顶部。
3.如权利要求2所述的方法,其中去除该模子包括去除该第一牺牲层。
4.如权利要求2所述的方法,其中该模子的壁包括一个第二牺牲层。
5.如权利要求2所述的方法,其中去除该模子包括去除该第二牺牲层。
6.如权利要求1所述的方法,其中去除该梁材料包括对该梁材料施加一种各向异性蚀刻。
7.如权利要求6所述的方法,包括向该基片施加一个电位以控制该各向异性蚀刻的方向。
8.如权利要求1所述的方法,其中该梁材料的沉积把该梁材料连接到设置在该基片上的一个支撑点。
9.如权利要求1所述的方法,其中该梁材料的沉积把该梁材料连接到沉积在一层在该模子的下水平表面以下沉积的材料上的一个支撑点上。
10.如权利要求9所述的方法,其中该梁材料的沉积在该梁材料与该支撑点之间建立了一种电连接。
11.如权利要求1所述的方法,其中形成该快门包括在该模子的上水平表面上沉积一个快门层,使得该快门层连接到该梁材料。
12.如权利要求11所述的方法,其中该快门层包括非晶硅。
13.如权利要求11所述的方法,其中该快门层用不同于该梁材料的一种材料形成。
14.如权利要求11所述的方法,其中该快门层用与该梁材料相同的材料形成。
15.如权利要求14所述的方法,其中该梁材料与该快门层一起包括一个多层的复合物。
16.如权利要求15所述的方法,其中该复合物包括至少一层非晶硅和至少一层金属。
17.如权利要求15所述的方法,其中该多层在该顺性的梁中产生一种不平衡的应力层次。
18.如权利要求1所述的方法,其中该模子壁大体上正交于该基片。
19.如权利要求1所述的方法,其中该梁材料沉积在该模子的壁上以具有一种不到约2微米的厚度。
20.如权利要求1所述的方法,其中该梁材料沉积在该模子的壁上以具有一种不到约1.5微米的厚度。
21.如权利要求1所述的方法,其中该梁材料沉积在该模子的壁上以具有一种不到约1.0微米的厚度。
22.一种空间光调制器,包括:
确定一个平面的基片;
在该基片上方由一个顺性的梁悬挂的一个快门,其中该顺性的梁的横剖视厚度在平行于该基片的平面的一个维度上不到约2微米。
23.如权利要求22所述的空间光调制器,其中该顺性的梁的该尺寸不到约1.5微米。
24.如权利要求22所述的空间光调制器,其中该顺性的梁的该尺寸不到约1微米。
25.一种制造显示装置的方法包括:
直接在一个大体上透明的基片上沉积一介电体材料层:
直接在该介电体材料的顶部沉积一金属层:
在该金属层中形成多个孔径光阑;
在该金属层的顶部形成一个控制矩阵;并且
在该控制矩阵的顶部并且与该控制矩阵电连通地形成多个调制光的快门组件,从而该控制矩阵控制该多个快门组件的光调制功能性。
26.如权利要求25所述的方法,其中该控制矩阵包括多个薄膜部件。
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