[发明专利]具有均匀耐候特性的塑料板无效
申请号: | 200680005828.X | 申请日: | 2006-02-23 |
公开(公告)号: | CN101198463A | 公开(公告)日: | 2008-06-11 |
发明(设计)人: | 李成涛;J·萨金特;S·M·加斯沃思;陈猛 | 申请(专利权)人: | 埃克阿泰克有限责任公司 |
主分类号: | B32B7/02 | 分类号: | B32B7/02;B32B27/08;B32B37/02;C08J7/04;C08J7/18 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 陈季壮 |
地址: | 美国密*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 均匀 特性 塑料板 | ||
1.塑料板,包括:
基础层;
具有第一和第二表面的耐候性薄膜层,其中所述薄膜层的第一表面附着于所述基础层;和
附着于所述耐候性薄膜层的第二表面的耐磨层,其中所述耐磨层可用于保护所述耐候性薄膜和基础层不受由磨损所引起的破坏。
2.权利要求1的塑料板,其中所述基础层由选自如下物质的材料制成:聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚酯、聚碳酸酯/丙烯腈丁二烯苯乙烯共混物、和聚碳酸酯/聚酯共混物。
3.权利要求1的塑料板,其中所述耐候性薄膜层还包含选自通过UV吸收、热吸收、缩合加成、热驱动缠结、或阳离子或阴离子物质引起的交联或其组合发生固化的聚合物类型的材料。
4.权利要求1的塑料板,其中所述耐候性薄膜层由选自如下的一种物质制成:丙烯酸-、离子聚合物-、氟-、脲烷-、硅氧烷-基聚合物,或它们的共聚物。
5.权利要求4的塑料板,其中所述耐候性薄膜层由所述聚合物的混合物或共混物制成。
6.权利要求1的塑料板,其中所述耐候性薄膜层在大约295-大约345纳米的波长之间显示大于大约1个吸光率单位的UV光吸收。
7.权利要求1的塑料板,其中所述耐候性薄膜层还包含紫外线吸收(UVA)分子。
8.权利要求7的塑料板,其中所述紫外线吸收分子在大约295-大约345纳米的波长之间显示大于大约1个吸光率单位的UV光吸收。
9.权利要求7的塑料板,其中所述UVA分子选自无机氧化物、二苯甲酮、苯甲酰基间苯二酚、氰基丙烯酸酯、三嗪、草酰二苯胺和苯并三唑。
10.权利要求1的塑料板,其中所述耐候性薄膜层还包含粘合促进剂添加剂以增强薄膜层的第二表面和耐磨层之间的粘附性。
11.权利要求10的塑料板,其中所述粘合促进剂添加剂是分散在所述耐候性薄膜层中的离散硅酮颗粒。
12.权利要求10的塑料板,其中所述粘合促进剂添加剂是硅氧烷片段,该片段存在于选自如下物质之一的聚合物的骨架中:丙烯酸-、离子聚合物-、氟-、脲烷-基聚合物,或它们的混合物和共聚物。
13.权利要求1的塑料板,其中所述耐磨层包含选自如下的一种物质:氧化铝、氟化钡、氮化硼、氧化铪、氟化镧、氧化镁、氧化钪、一氧化硅、二氧化硅、氮化硅、氧氮化硅、氧碳化硅、氢化的氧碳化硅、碳化硅、氧化钽、氧化钛、氧化锡、氧化钇、氧化锌、硒化锌、硫化锌、氧化锆和钛酸锆。
14.权利要求1的塑料板,其中所述耐磨层由选自如下的一种方法沉积:等离子增强的化学气相沉积(PECVD)、膨胀热等离子PECVD、等离子聚合、光化学气相沉积、离子束沉积、离子电镀沉积、阴极弧沉积、溅镀、蒸发、中空阴极活化沉积、磁控管活化沉积、活化反应性蒸发、热化学气相沉积和溶胶凝胶涂覆法。
15.权利要求13的塑料板,其中所述耐磨层还包含紫外线吸收分子。
16.权利要求1的塑料板,其中所述塑料板还包含附着于所述耐候性层的第二表面的粘附促进中间层以促进所述耐磨层的粘附。
17.权利要求16的塑料板,其中所述粘附促进中间层包含选自通过UV吸收、热吸收、缩合加成、热驱动缠结、或阳离子或阴离子物质引起的交联或其组合发生固化的聚合物类型的材料。
18.权利要求16的塑料板,其中所述粘附促进中间层由选自如下物质的材料制成:丙烯酸-、离子聚合物-、氟-、脲烷-、硅氧烷-基聚合物,或它们的共聚物。
19.权利要求18的塑料板,其中所述粘附促进层还包含分散在所述中间层中的离散硅酮颗粒。
20.权利要求18的塑料板,其中所述粘附促进中间层还包括向所述聚合物的骨架中添加硅氧烷片段。
21.权利要求18的塑料板,其中所述粘附促进中间层由所述聚合物的混合物或共混物制成。
22.权利要求17的塑料板,其中所述粘附促进层还包含分散在所述中间层中的离散硅酮颗粒。
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