[发明专利]氟化的化合物

权利要求书

1.一种组合物，其包括

a)一种对氧化、热或光诱导的降解敏感的有机材料，和

b)至少一种式(I)的化合物，

R₁-Q-R₂    (I)

其中

Q是直接键，或

R₁是C₁-C₁₀₀烷基、C₂-C₁₀₀烯基、C₃-C₁₂环烷基或被1至5个C₁-C₄烷基取代的C₃-C₁₂环烷基；

R₂是含氟基团，且

R₃和R₄彼此独立，是氢或是C₁-C₄烷基。

2.根据权利要求1的组合物，其中Q是直接键。

3.根据权利要求1的组合物，其中R₁是C₁₀-C₃₀烷基、C₁₀-C₃₀烯基或被1至5个C₁-C₄烷基取代的环己基。

4.根据权利要求1的组合物，其中R₂是C₁-C₂₅氟烷基。

5.根据权利要求1的组合物，其中R₃和R₄是氢。

6.根据权利要求1的组合物，其中R₂是-(CF₂)_nCF₃，其中n是3至12。

7.根据权利要求1的组合物，其中Q是直接键，R₁是C₁₀-C₂₅烷基或C₁₀-C₂₅烯基，且R₂是-(CF₂)₇CF₃。

8.根据权利要求1的组合物，其中组分(a)是天然、半合成或合成的聚合物。

9.根据权利要求1的组合物，其中组分(a)是合成聚合物。

10.根据权利要求1的组合物，其中组分(a)是纤维或非纺织物。

11.根据权利要求1的组合物，其中组分(b)的存在量基于组分(a)的重量为0.01～10％。

12.根据权利要求1的组合物，其除了组分(a)和(b)外还包括另外的添加剂。

13.根据权利要求12的组合物，其包括酚类抗氧化剂、光稳定剂和/或加工稳定剂作为另外的添加剂。

14.一种降低有机材料的表面能的方法，其包括将至少一种根据权利要求1的组分(b)结合到所述有机材料中。

15.根据权利要求1的组分(b)作为有机材料表面能的降低剂的用途。