[发明专利]非易失性存储器装置中的多级编程无效

专利信息
申请号: 200680006303.8 申请日: 2006-02-28
公开(公告)号: CN101128883A 公开(公告)日: 2008-02-20
发明(设计)人: 李迪 申请(专利权)人: 美光科技公司
主分类号: G11C11/56 分类号: G11C11/56
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 代理人: 王允方;刘国伟
地址: 美国爱*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 非易失性存储器 装置 中的 多级 编程
【权利要求书】:

1.一种用于编程多级非易失性存储器装置的方法,所述多级非易失性存储器装置具有多个存储器单元,所述存储器单元被组织成具有位线列和字线行的多个存储器区块,所述方法包括:

最初编程所述多个存储器区块的第一存储器区块的下部页面,使得所述编程在所述第一存储器区块的最下部字线处开始并在上升字线方向上继续;以及

编程所述第一存储器区块的上部页面,使得所述编程在所述第一存储器区块的所述最下部字线处开始并在上升字线方向上继续。

2.根据权利要求1所述的方法,其中所述第一存储器区块由128个页面组成。

3.根据权利要求1所述的方法,其中所述多个存储器单元中的每一者均为多级存储器单元。

4.根据权利要求1所述的方法,其中所述多个存储器单元以NAND结构排列。

5.根据权利要求1所述的方法,其中所述多个存储器单元以NOR结构排列。

6.根据权利要求1所述的方法,且进一步包含最初即具有擦除状态的所述存储器单元。

7.根据权利要求6所述的方法,其中所述擦除状态是逻辑“11”状态。

8.一种用于编程多级快闪存储器装置的方法,所述多级快闪存储器装置具有包括多个存储器单元的存储器阵列,所述存储器单元被组织成具有位线列和字线行的多个存储器区块,所述方法包括:

最初编程所述多个存储器区块的第一存储器区块的第一页面,使得所述编程在所述第一存储器区块的顶部处开始并朝向所述第一存储器区块的底部继续,所述编程包括针对每个写入操作在位线方向上大体上同时编程交替单元;以及

编程所述第一存储器区块的第二页面,使得所述编程在所述第一存储器区块的项部处开始并朝向所述第一存储器区块的底部继续,所述编程包括针对每个写入操作在所述位线方向上大体上同时编程交替单元。

9.根据权利要求8所述的方法,其中编程所述第一存储器区块的所述第一页面包含:在所述位线方向上对第一字线的每一交替存储器单元执行第一写入操作;对所述第一区块的耦合到所述第一字线的剩余存储器单元执行第二写入操作;在所述位线方向上对第二字线的每一交替存储器单元执行第三写入操作;对所述第一区块的耦合到所述第二字线的剩余存储器单元执行第四写入操作;在所述位线方向上对第三字线的每一交替存储器单元执行第五写入操作;对所述第一区块的耦合到所述第三字线的剩余存储器单元执行第六写入操作;在所述位线方向上对第四字线的每一交替存储器单元执行第七写入操作;以及对所述第一区块的耦合到所述第四字线的剩余存储器单元执行第八写入操作。

10.根据权利要求9所述的方法,其中编程所述第一存储器区块的所述第二页面包含:在所述位线方向上对所述第一字线的每一交替存储器单元执行第九写入操作;对所述第一区块的所述耦合到所述第一字线的剩余存储器单元执行第十写入操作;在所述位线方向上对所述第二字线的每一交替存储器单元执行第十一写入操作;对所述第一区块的所述耦合到所述第二字线的剩余存储器单元执行第十二写入操作;在所述位线方向上对所述第三字线的每一交替存储器单元执行第十三写入操作;对所述第一区块的所述耦合到所述第三字线的剩余存储器单元执行第十四写入操作;在所位线方向上对所述第四字线的每一交替存储器单元执行第十五写入操作;以及对所述第一区块的所述耦合到所述第四字线的剩余存储器单元执行第十六写入操作。

11.根据权利要求8所述的方法,且进一步包含在编程所述第一页面之前擦除所述第一存储器区块。

12.根据权利要求8所述的方法,且进一步包含在编程所述第一和第二页面之后检验所述第一存储器区块。

13.根据权利要求8所述的方法,其中每一写入操作增加经编程存储器单元的阈值电压。

14.一种快闪存储器装置,其包括:

存储器阵列,其包括多个多级存储器单元,所述多个存储器单元被组织成具有多个字线行和多个位线列的存储器区块;以及

控制电路,其经耦合以编程所述存储器阵列,所述控制电路适于在编程第一存储器区块的上部页面之前最初编程所述第一存储器区块的下部页面,每一编程操作在所述第一存储器区块的最下部字线处开始并在上升字线方向上继续。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于美光科技公司,未经美光科技公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200680006303.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top