[发明专利]手术支援装置和处理支援装置无效

专利信息
申请号: 200680006669.5 申请日: 2006-02-22
公开(公告)号: CN101132744A 公开(公告)日: 2008-02-27
发明(设计)人: 小野田文幸;丹羽宽;佐藤稔;织田朋彦;三好义孝;三宅宪辅;相沢千惠子 申请(专利权)人: 奥林巴斯医疗株式会社
主分类号: A61B19/00 分类号: A61B19/00;A61B1/00
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 代理人: 黄纶伟
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 手术 支援 装置 处理
【权利要求书】:

1.一种手术支援装置,其特征在于,该手术支援装置具有:

探头,其在被插入被检体的体内的插入部的内部,配置有多个如下两方元件中的一方元件,即磁场产生元件和磁场检测元件;

处理器具,其在对上述被检体的对象部位实施处理的处理部的附近,配置有1个或多个上述一方元件;以及

检测单元,其在上述被检体的外部配置有上述磁场产生元件和上述磁场检测元件中的另一方元件,以上述另一方元件的位置为基准,检测配置在上述探头中的上述一方元件以及配置在上述处理器具中的上述一方元件各自的位置。

2.如权利要求1所述的手术支援装置,其特征在于,

所述处理器具配置有多个所述一方元件;

所述检测单元根据配置在所述处理器具中的多个所述一方元件的各位置,检测所述处理器具向所述对象部位的接近方向。

3.如权利要求1或2所述的手术支援装置,其特征在于,

所述检测单元根据检测结果,计算所述处理器具的所述处理部与所述探头之间的最短距离。

4.如权利要求3所述的手术支援装置,其特征在于,

所述检测单元在所述最短距离小于规定距离的情况下,进行警告。

5.如权利要求4所述的手术支援装置,其特征在于,

所述处理器具是从所述处理部对所述被检体的对象部位施加能量,来实施处理的能量处理器具,

所述检测单元在所述最短距离小于规定极限距离的情况下,使所述能量处理器具停止所述能量的施加。

6.如权利要求3至5中的任一项所述的手术支援装置,其特征在于,

将由所述检测单元计算出的最短距离显示在显示单元上。

7.如权利要求1至6中的任一项所述的手术支援装置,其特征在于,

该手术支援装置具有内窥镜装置,该内窥镜装置对所述被检体的对象部位进行摄像,

所述检测单元生成基于来自所述内窥镜装置的所述对象部位的内窥镜图像的所述探头的形状图像和所述处理器具的前端图像。

8.如权利要求1至7中的任一项所述的手术支援装置,其特征在于,所述探头由引导线构成。

9.如权利要求1至7中的任一项所述的手术支援装置,其特征在于,所述探头由探针构成。

10.如权利要求1至7中的任一项所述的手术支援装置,其特征在于,所述探头由内窥镜构成。

11.如权利要求1至6中的任一项所述的手术支援装置,其特征在于,该手术支援装置具有:

形状图像生成单元,其根据由所述检测单元得到的各元件的位置,生成所述探头的形状图像、以及所述处理部的前端部位置信息和形状图像;以及

显示单元,其将所述形状图像生成单元生成的图像显示在同一画面上。

12.如权利要求10所述的手术支援装置,其特征在于,

将多个所述处理器具的前端部位置信息和形状图像显示在所述显示单元上。

13.一种手术支援装置,其特征在于,

该手术支援装置具有:

探头,其在被插入被检体的体内的插入部的内部,配置有多个如下两方元件中的一方元件,即磁场产生元件和磁场检测元件;

标识单元,其内置有所述磁场产生元件和磁场检测元件中的一方,具有用于安装到处理器具的安装部;以及

检测单元,其在所述被检体的外部配置有所述磁场产生元件和所述磁场检测元件中的另一方元件,以所述另一方元件的位置为基准,检测配置在所述探头中的所述一方元件以及配置在所述标识单元中的所述一方元件各自的位置。

14.如权利要求1所述的手术支援装置,其特征在于,

根据由所述检测单元检测出的位置信息,将所述探头的形状和所述处理部的前端部显示在显示单元上。

15.一种处理支援装置,其特征在于,

该处理支援装置具有:

处理器具,其在对被检体的对象部位实施处理的处理部的附近,配置有磁场产生元件和磁场检测元件中的一方元件;

以及检测单元,其在上述被检体的外部配置有上述磁场产生元件和上述磁场检测元件中的另一方元件,以上述另一方元件的位置为基准,检测配置在上述处理器具中的上述一方元件的位置。

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