[发明专利]磁记录介质及其制造方法以及磁记录和再现装置

权利要求书

1.一种磁记录介质，至少包括：取向控制层、非磁性内涂层、磁性层以及保护层，它们按照上述顺序层叠在铝基底上，其中该铝基底的表面上具有条纹并镀敷有NiP或NiP合金，

其中所述取向控制层包含选自于Co、Ni和Fe中的一种或多种成分以及选自于W、Mo、Ta和Nb中的一种或多种成分。

2.根据权利要求1所述的磁记录介质，其中所述取向控制层包含选自于以下合金的至少一种合金：Co-W、Co-Mo、Co-Ta、Co-Nb、Ni-Ta、Ni-Nb、Fe-W、Fe-Mo以及Fe-Nb。

3.根据权利要求1或2所述的磁记录介质，其中在所述铝基底中，通过化学沉积在Al-Mg合金基底体上形成Ni-P型合金膜。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的磁记录介质，其中所述取向控制层的膜厚在1埃至50埃的范围。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的磁记录介质，其中所述条纹的线密度为7500(线/毫米)或更高。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的磁记录介质，其中所述磁性层的磁各向异性指数(沿周向的顽磁性/沿径向的顽磁性)为1.05或更大。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的磁记录介质，其中剩磁强度量的磁各向异性指数(沿周向的剩磁强度量/沿径向的剩磁强度量)为1.05或更大。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的磁记录介质，其中所述非磁性内涂层包含Cr层或Cr合金层，其中该Cr合金层包含选自于Ti、Mo、Al、Ta、W、Ni、B、Si、V和Mn的一种或多种成分。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的磁记录介质，其中所述磁性层包含选自于以下合金的一种或多种成分：Co-Cr-Pt、Co-Cr-Pt-Ta、Co-Cr-Pt-B和Co-Cr-Pt-B-Y(Y代表Ta或Cu)。

10.一种磁记录和再现装置，其特征在于，包括根据权利要求1至9中任一项所述的磁记录介质，以及用于在该磁记录介质上记录和再现信息的磁头。