[发明专利]透光电磁波屏蔽膜、滤光器和等离子体显示面板

说明书

技术领域

本发明涉及透光电磁波屏蔽膜，其能够屏蔽从显示器如阴极射线管(CRT)、等离子体显示面板(PDP)、液晶显示器、电致发光(EL)显示器或场发射显示器(EFD)、微波炉、电子装置、印刷线路板等正面产生的电磁波并且具有透光性、以及具有这种透光电磁波屏蔽膜的滤光器和等离子体显示面板。

背景技术

随着近来各种电气设备和电子器件的使用的增加，电磁干扰(EMI)急剧增大。应指出，EMI不仅在电气和电子器件中引起机械故障和阻碍，而且对操作这些器件的工作人员的健康也有不利影响。因此，需要控制从电气装置/电子器件产生的电磁波的强度以不超过标准或规定水平。

作为针以上述EMI的对策，需要屏蔽电磁波，显然利用金属不允许电磁透过的特性可以实现这一点。因此，例如，已经采用了使用由金属或高导电材料制成的壳体的方法，在电路基板间插入金属板的方法和用金属箔涂布电缆的方法。然而，CRT、PDP等的显示器应该是透明的，因为操作人员应确认屏幕上显示的字符等。然而，在上述每种方法中，显示器的正面经常变成不透明的，从而使这些方法不适于作为电磁波屏蔽方法。

与CRT等相比，PDP产生大量电磁波。因此，要求PDP具有更强的电磁波屏蔽性能。电磁波屏蔽性能可以简单地以表面电阻率表示。用于CRT的透光电磁波屏蔽材料其表面电阻率应为约300Ω/sq或更小，用于PDP的透光电磁波屏蔽材料其表面电阻率应为约2.5Ω/sq或更小。此外，用于消费者使用的等离子体TV用的透光电磁波屏蔽材料应具有极高导电性，即表面电阻率约1.5Ω/sq或更小，优选0.1Ω/sq或更小。

关于透明度，用于CRT的透光电磁波屏蔽材料其透明度应为约70％或更大，用于PDP的透光电磁波屏蔽材料其透明度更高，为80％或更大。

为克服上述问题，已经提出了使用具有开口的金属网来获得良好的电磁波屏蔽性能和高透明度的各种材料和方法，下面将进行说明。

(1)导电纤维

例如，专利文献1公开了一种由导电纤维制成的电磁波屏蔽材料。然而，这种屏蔽材料面临的问题在于，具有较宽的网状线宽度，因此，在用于屏蔽显示屏幕时，使屏幕变暗。其结果是，显示器上所示的字符几乎无法看到。

(2)通过无电镀方法得到的网状

已经提出了一种方法，包括使用无电镀催化剂印刷格子图案，然后进行无电镀(参见例如，专利文献2和专利文献3等)。然而，在这种情况下，印刷的催化剂具有较宽的线宽，约60μm，这使得其不适于需要相对较窄线宽和精密图案的显示器。

此外，已经提出了一种方法，包括涂布含有无电镀催化剂的光致抗蚀剂、曝光并显影，形成无电镀催化剂图案，然后进行无电镀(参见例如，专利文献4)。然而，导电膜的可见光透过率为72％，因此，这样仅能获得不充分的透明度。此外，该方法面临的问题在于制造成本，即需要使用高价的钯作为无电镀催化剂，以除去曝光后的大部分曝光部。

(3)使用照相平版印刷术通过蚀刻法得到的网状

已经提出了一种方法，其中使用照相平版印刷术通过蚀刻法在透明基材上形成金属网状薄膜(参见例如，专利文献5至专利文献8等)。由于能够进行微加工，因而这种方法的优点在于形成具有高开口率(高透过率)的网状并能够屏蔽更强的电磁释放。另一方面，其面临的问题在于，制造过程麻烦和复杂，因此，成本高。此外，已知的是，由于使用蚀刻过程，因而格子图案的问题在于，交点的线宽比直线更宽。此外，已经指出，这种方法面临应克服波纹的问题。

(4)使用卤化银通过在导电金属银和显影银上镀铜得到的网状

已经提出了使用经使卤化银显影得到的导电金属银形成导电网状的方法，或通过用金属铜镀经使卤化银显影得到的网状显影银形成导电网状的方法(参见例如，专利文献9和专利文献10)。

为了防止例如在远程控制方面的故障，近红外射线-切断功能被认为是如上所述电磁波屏蔽膜和PDP所需要的重要因素，如在专利文献11和专利文献1 2中所报道。

专利文献1：JP-A-5-327274

专利文献2：JP-A-11-170420

专利文献3：JP-A-5-283889

专利文献4：JP-A-11-170421

专利文献5：JP-A-2003-46293

专利文献6：JP-A-2003-23290

专利文献7：JP-A-5-16281

专利文献8：JP-A-10-338848

专利文献9：JP-A-2004-207001