[发明专利]具有阳光性能的涂层组成有效
申请号: | 200680009337.2 | 申请日: | 2006-03-20 |
公开(公告)号: | CN101146750A | 公开(公告)日: | 2008-03-19 |
发明(设计)人: | J·J·芬雷;J·P·蒂尔;H·布海 | 申请(专利权)人: | PPG工业俄亥俄公司 |
主分类号: | C03C17/36 | 分类号: | C03C17/36 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 李帆 |
地址: | 美国俄*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 阳光 性能 涂层 组成 | ||
1.涂层组成,包括:
a.红外反射层;
b.在红外反射层上的底涂层;
c.在底涂层上的介电层;和
d.吸收层,其中吸收层可以在红外反射层下或是在介电层上。
2.根据权利要求1的涂层,其中吸收层包括(a)在500nm处具有等于或小于1.0的折射系数的金属和(b)在1000°K下具有大于或等于-100的ΔG°f的材料的合金和/或混合物。
3.根据权利要求2的涂层,其中在1000°K下具有大于或等于-100的ΔG°f的材料选自锡、铟、铜、锌及其混合物。
4.根据权利要求2的涂层,其中所述金属是银且所述材料是锡。
5.根据权利要求1的涂层,其中吸收层包括一种或多种选自铜、锰、钛、钴、铁和铬的氧化物、氮化物和碳化物的材料及其混合物和合金。
6.根据权利要求1的涂层,其中吸收层包括一种或多种选自镍、钴、铬、钢和及氧化物和其混合物的材料。
7.根据权利要求1的涂层,其中使用选自CVD、喷雾热解和MSVD的方法沉积吸收层。
8.根据权利要求1的涂层,其中吸收层具有20-300的厚度。
9.根据权利要求1的涂层,其中介电层包括选自金属氧化物、金属合金氧化物、氮化物、氧氮化物和其混合物的材料。
10.根据权利要求9的涂层,其中介电层包括选自钛、铪、锆、铌、锌、铋、铅、铟、锡的氧化物和其混合物的金属氧化物。
11.根据权利要求9的涂层,其中介电层包括范围在10重量%-90重量%锌和90重量%-10重量%锡的锌/锡合金氧化物。
12.根据权利要求1的涂层,其中红外反射层包括选自银、金和铜的材料。
13.根据权利要求1的涂层,其沉积在0.16英寸厚的透明玻璃基板上,其中从基板至少一侧,基板具有小于或等于50%的Lta和等于或小于52的L*。
14.涂覆的基板,包括:
a.基板;
b.在基板上的红外反射层;
c.在红外反射层上的底涂层;
d.在底涂层上的介电层;和
e.吸收层,其中吸收层可以在红外反射层下或在介电层上。
15.根据权利要求14的涂覆的基板,其中吸收层包括(a)在500nm处具有等于或小于1.0折射系数的金属和(b)在1000°K下具有大于或等于-100的ΔG°f的材料的合金和/或混合物。
16.根据权利要求14的涂覆的基板,其中基板是玻璃。
17.形成涂层的方法,包括:
a.在基板上沉积红外反射层;
b.在红外反射层上沉积底涂层;
c.在底涂层上沉积介电层;和
d.沉积吸收层,
其中吸收层可沉积在红外反射层下或在介电层上,且其中当在0.16英寸厚的透明玻璃基板上沉积涂层时,从基板至少一侧,基板具有小于或等于50%的Lta,等于或小于52的L*。
18.根据权利要求17的方法,其中通过MSVD完成红外反射层的沉积。
19.制备涂覆基板的方法,包括:
a.在基板上沉积包括在1000°K下具有大于或等于-100的ΔG°f材料的第一介电层;
b.在第一介电层上沉积第一红外反射层;
c.在第一红外反射层上沉积第一底涂层;
d.在底涂层上沉积第二介电层;
e.在第二介电层上沉积第二红外反射层;
f.在第二红外反射层上沉积第二底涂层;
g.在第二底涂层上沉积氧阻挡层;和
h.加热沉积的涂层使得金属离子从至少一介电层扩散到至少一红外反射层中以形成吸收层。
20.根据权利要求19的方法,还包括在介电层之一和红外反射层之一之间沉积阻隔层。
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