[发明专利]光记录介质及其制造方法

权利要求书

1.一种光记录介质，其是在基板上依次具有记录层、中间层、粘接层及保护层的光记录介质，其中，

在将高温高湿保存试验前的中间层的厚度设为t时，所述高温高湿保存试验后的所述中间层的厚度t₁为“0.8t≤t₁≤1.2t”，所述高温高湿保存试验是在恒温槽中，在60℃90％RH的状态下，保存具备中间层的本发明的光记录介质168小时，在其保存前和保存后调查中间层的膜厚变化的比例的试验。

2.根据权利要求1所述的光记录介质，其中，

所述中间层的耐酸性试验后的变化率在20％以内。

3.根据权利要求1或2所述的光记录介质，其中，

所述粘接层及所述保护层构成的覆盖层的透水率为100g/(m²·d)以下。

4.根据权利要求1或2所述的光记录介质，其中，

所述记录层含有色素。

5.根据权利要求1或2所述的光记录介质，其中，

所述中间层含有氧化钽(V)或氧化铌(V)。

6.一种光记录介质的制造方法，其是具有在基板上至少形成含有有机色素的记录层、中间层和覆盖层的工序的光记录介质的制造方法，其中，

利用将稀有气体和氧气用作喷溅气体的溅射法形成所述中间层。

7.根据权利要求6所述光记录介质的制造方法，其中，

氧气相对所述稀有气体的流量比率为1/1～1/100。

8.根据权利要求6或7所述的光记录介质的制造方法，其中，

所述中间层含有金属氧化物。

9.根据权利要求6或7所述的光记录介质的制造方法，其中，

所述中间层含有金属氧化物，溅射法中的金属氧化物目标物中的金属与氧的比率为10/1at％～1/10at％，所述稀有气体与氧气的流量比率为1/1～1/100。

10.根据权利要求8所述的光记录介质的制造方法，其中，

所述金属氧化物为Nb的氧化物或Ta的氧化物。

11.一种光记录介质，其是在基板上至少具有含有有机色素的记录层、中间层和覆盖层的光记录介质，其中，

所述中间层是利用将稀有气体和氧气用作喷溅气体的溅射法形成而成的。

12.根据权利要求11所述的光记录介质，其中，

所述中间层含有Nb的氧化物或Ta的氧化物。

13.一种光记录介质，其是在基板上至少具有含有有机色素的记录层、中间层和覆盖层的光记录介质，其中，

所述中间层满足下面的条件式(1)，

40％≤A/(A+B)≤100％…条件式(1)

(条件式(1)中，A表示氧化状态稳定的主要成分的比例，B表示氧化状态不稳定的成分的比例)。

14.根据权利要求13所述的光记录介质，其中，

所述氧化状态稳定的主要成分与所述氧化状态不稳定的成分为金属氧化物。

15.根据权利要求14所述的光记录介质，其中，

所述金属氧化物为Nb的氧化物，满足下面的条件式(2)，

40％≤A/(A+B)≤100％…条件式(2)

(条件式(2)中，A表示氧化状态稳定的主要成分的比例，B表示氧化状态不稳定的成分的比例)。

16.根据权利要求14所述的光记录介质，其中，

所述金属氧化物为Ta的氧化物，满足下面的条件式(3)，

70％≤A/(A+B)≤100％…条件式(3)

(条件式(3)中，A表示氧化状态稳定的主要成分的比例，B表示氧化状态不稳定的成分的比例。)

17.一种光记录介质，其是在基板上至少具有含有有机色素的记录层、中间层和覆盖层的光记录介质，其中，

所述中间层含有在60℃纯水中保存2天的保存前和保存后，将SEM-EDX元素分析中的保存前的峰强度设为A、将保存后的峰强度设为B时，满足下面的条件式(1)的原材料，

0.8≤B/A≤1…条件式(1)