[发明专利]具有相对衬底倾斜的喷洒头的液体浸没光刻系统

权利要求书

1.一种浸没式光刻系统，包括：

将图案化的辐射束引导到衬底上的投影光学系统；以及

将液流在投影光学系统和衬底之间传送的喷洒头，

其中，所述喷洒头包括第一喷嘴和第二喷嘴，所述第一喷嘴和所述第二喷嘴所处位置分别与衬底相隔不同的距离。

2.根据权利要求1所述的浸没式光刻系统，其中，液流相对于衬底是倾斜的。

3.根据权利要求1所述的浸没式光刻系统，其中，从第一喷嘴到第二喷嘴的液流方向以一角度倾斜，所述角度至少部分地基于衬底相对于投影光学系统的扫描速度。

4.根据权利要求1所述的浸没式光刻系统，其中，第一喷嘴和第二喷嘴中的一个是喷射喷嘴，而第一喷嘴和第二喷嘴中的另一个是回收喷嘴，所述两个喷嘴的功能是基于衬底相对于投影光学系统的扫描方向被动态地调整；且

与所述回收喷嘴相比，所述喷射喷嘴更远离衬底表面。

5.根据权利要求1所述的浸没式光刻系统，其中，从喷射喷嘴到回收喷嘴的方向相对于衬底倾斜近似0.06度或近似1至2度。

6.一种浸没式光刻系统，包括：

被构造用于对衬底进行曝光的投影光学系统；以及

第一喷嘴和第二喷嘴，所述第一喷嘴和所述第二喷嘴所处位置分别与衬底相隔不同的距离。

7.根据权利要求6所述的浸没式光刻系统，其中，倾斜的液流相对于衬底倾斜近似0.06度或近似1至2度。

8.根据权利要求6所述的浸没式光刻系统，其中，第一喷嘴所处位置与衬底的距离不同于第二喷嘴所处位置与衬底的距离，以产生倾斜的液流。

9.根据权利要求8所述的浸没式光刻系统，还包括：

控制器，所述控制器被构造用于基于衬底的扫描方向，改变第一喷嘴或第二喷嘴中哪一个喷嘴处于与衬底更近的位置。

10.根据权利要求9所述的浸没式光刻系统，其中，所述控制器被构造用于移动衬底，以使得第一喷嘴和第二喷嘴中的一个基于衬底的扫描方向处于与衬底更近的位置。

11.根据权利要求8所述的浸没式光刻系统，其中，所述控制器被构造用于移动第一喷嘴和第二喷嘴中的一个喷嘴，以使得第一喷嘴和第二喷嘴中的所述一个喷嘴基于衬底的扫描方向处于与衬底更近的位置。

12.一种方法，包括步骤：

采用投影系统将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上；

采用液体供给系统、用浸没液体至少部分地填充在投影系统和衬底之间的空隙；以及

通过相对于衬底以一角度定位液体供给系统，产生倾斜液流。

13.根据权利要求12所述的方法，还包括步骤：使所述角度的度数基于衬底的扫描速度。

14.根据权利要求12所述的方法，还包括步骤：使倾斜方向基于衬底的扫描方向。

15.根据权利要求12所述的方法，还包括步骤：移动衬底，使得衬底相对于液体供给系统倾斜。

16.根据权利要求12所述的方法，还包括步骤：移动液体供给系统，以使得液体供给系统相对于衬底倾斜。

17.根据权利要求12所述的方法，还包括步骤：

使液体供给系统设置有第一喷嘴和第二喷嘴；以及

将第一喷嘴和第二喷嘴中的一个相对于第一喷嘴和第二喷嘴中的另一个移动，以使得第一喷嘴和第二喷嘴中的所述一个更接近衬底表面、以产生倾斜液流。