[发明专利]带均压的衬底容器无效

专利信息
申请号: 200680014024.6 申请日: 2006-02-27
公开(公告)号: CN101166682A 公开(公告)日: 2008-04-23
发明(设计)人: B·格雷格森;D·哈伯梅尔;S·森纳;B·怀斯曼;A·M·蒂本;J·斯特里克 申请(专利权)人: 安堤格里斯公司
主分类号: B65G1/133 分类号: B65G1/133
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 代理人: 任永武
地址: 美国明*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 带均压 衬底 容器
【权利要求书】:

1.一种用于容纳对微粒敏感的衬底的盒,用于在所述盒的外部与内部环境之间提供均压并用于使靠近所述对微粒敏感的衬底的内部气态流体流最小化,所述盒的特征是包含:

主盒,其包含基座及封盖,所述封盖构造有与外表面相对的下凹的内表面,所述封盖适于可移开地啮合所述基座,以在所述下凹的内表面与所述基座之间界定具有第一体积的第一外壳,所述封盖具有一开孔;

位于所述封盖中的隔膜,所述隔膜具有正常的未挠曲位置,所述隔膜在与所述盒的所述外部连通的第二体积与不与所述盒的所述外部流体连通的第三体积之间划分所述第一体积,所述隔膜可相对于所述正常的未挠曲位置发生挠曲;以及

辅助盒,其设置于所述主盒中,所述辅助盒包含下部及上部,所述上部适于与所述下部进行接口,以界定由第二外壳体积表征的用于容纳所述对微粒敏感的衬底的第二外壳,所述下部包含支撑结构,以用于可移开地将所述对微粒敏感的衬底固持于其上面,且所述上部包含固定结构,以用于在所述上部与所述下部啮合时固定所述对微粒敏感的衬底。

2.如权利要求1所述的盒,其特征是所述隔膜相对于其中的所述对微粒敏感的衬底实质同心地定位。

3.如权利要求2所述的盒,其特征是所述隔膜包含可从所述正常的未挠曲位置移动至挠曲位置的工作部。

4.如权利要求3所述的盒,其特征是所述工作部包含第一部分及第二部分,所述第一部分不能渗透气态流体,而所述第二部分可渗透气态流体。

5.如权利要求1所述的盒,其特征是进一步包含过滤器,所述过滤器附装至所述盒并在所述盒的所述外部与所述盒的所述内部之间提供气态流体连通。

6.如权利要求1所述的盒,其特征是所述隔膜具有工作部,所述工作部的至少一部分设置有同心凸脊结构。

7.如权利要求6所述的盒,其特征是所述隔膜是由弹性材料制成。

8.如权利要求7所述的盒,其特征是所述封盖是由第一壳体部与第二壳体部构成,所述第一壳体部具有尺寸近似为所述隔膜的尺寸的开孔,所述第二壳体部覆盖所述第一壳体部的所述开孔,所述第二壳体部与所述隔膜界定所述第二体积。

9.如权利要求8所述的盒,其特征是所述第二壳体部包含圆顶形的壁,且所述第二壳体部包含一对在水平方向上从所述圆顶形的壁沿横向向外延伸的凸起。

10.如权利要求1所述的盒,其特征是所述主盒、所述辅助盒、以及所述隔膜全部同心地定位。

11.如权利要求1所述的盒,其特征是所述辅助盒通过具有气隙的限制件对微粒进入提供屏障。

12.如权利要求1所述的盒,其特征是所述基座具有朝上的表面,且所述辅助盒的所述上部具有朝下的周边唇缘,且其中所述周边唇缘面对所述基座而不与其接触,从而界定在所述唇缘与所述基座的所述朝上表面之间延伸的间隙。

13.一种用于容纳至少一个对微粒敏感的衬底的盒,用于在所述盒的外部与内部环境之间提供均压并用于使靠近所述对微粒敏感的衬底的内部气态流体流最小化,所述盒的特征是包含:

壳体部,其具有界定门框的开口;

门,其尺寸适于接纳于所述门框中,所述门包含具有可缩回的闩锁部的闩锁机构,以用于与所述门框啮合,从而将所述门紧固于所述门框内,其中紧固有所述门的所述壳体界定第一体积;

衬底支撑件,其设置于所述盒内,用于将所述至少一个对微粒敏感的衬底可移开地固持于受控的密封内部空间中;以及

隔膜,其附装至所述盒上并定位成使所述受控的密封内部空间与所述外部环境隔离,所述隔膜可挠曲,以补偿所述盒的内部与所述盒的外部之间的压差。

14.如权利要求13所述的盒,其特征是所述衬底是直径至少约为300mm的半导体晶片,其中所述壳体部具有底侧、左侧、右侧及前侧,且所述门框位于所述前侧上,且其中在所述盒的所述内部中,所述衬底支撑件包含在所述左侧及所述右侧上排列成列的多个晶片搁架,且其中所述底侧上具有运动耦合件。

15.如权利要求14所述的盒,其特征是所述隔膜是附装至所述壳体的弹性隔膜。

16.如权利要求14所述的盒,其特征是所述隔膜位于所述门中。

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