[发明专利]利用磁共振的检查装置及核磁共振信号接收用线圈有效

专利信息
申请号: 200680014055.1 申请日: 2006-02-06
公开(公告)号: CN101166461A 公开(公告)日: 2008-04-23
发明(设计)人: 越智久晃;谷口阳;竹内博幸 申请(专利权)人: 株式会社日立制作所;株式会社日立医药
主分类号: A61B5/055 分类号: A61B5/055
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 李贵亮
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 利用 磁共振 检查 装置 核磁共振 信号 接收 线圈
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种利用磁共振的检查装置(以下,称为MRI装置),特别涉及检测核磁共振信号的接收用RF线圈。

背景技术

MRI装置是从放置在均匀的磁场中的检查对象(被检查者)通过核磁共振得到信号并图像化的装置,摄像视野局限于静磁场磁铁所发生的均匀磁场空间。但是,近年来,开发了边移动载置有被检查体的平台边摄像的方法,由此可以摄像例如被检查体的全身等广阔视野。随着上述平台的移动的广阔视野摄像,因为要将计测时间设定在被检查者可耐受的时间以内,所以期望缩短摄像时间。

作为谋求缩短摄像时间的高速摄像法之一,现开发出使用由多个副线圈构成的接收线圈,利用从普通的相位编码隔开间隔后的相位编码进行摄像,且使用多个接收线圈的灵敏度分布信息除去图像中产生的折叠(aliasing)的技术(称为并行成像等。这里称为摄像时间缩短技术)(非专利文献1)。该摄像方法与通常的摄像相比,可以减少相位编码步骤,因此可以缩短整体上的摄像时间。在理论上,可以将相位编码的疏减率(thinning-out rate)(=疏减后的相位编码数/通常的相位编码数)形成为“副线圈数”分之一,且缩短与相位编码疏减率相对应的摄像时间。

为了实现这样的缩短摄像时间的技术,首先需要使多个副线圈之间的互相电磁耦合足够小。在具有副线圈间的电磁耦合时,线圈间噪声干扰,使图像的S/N恶化。作为抑制2个线圈的电磁耦合的方法,非专利文献2记载了在信号检测中使用低输入阻抗的放大器的方法。但是,在相对于两个线圈间的距离而线圈尺寸较大的情况下,仅使用该方法不能完全抑制磁耦合。

另外,在该摄像时间缩短的技术中,多个副线圈的几何学配置要适当。多个接收线圈的几何学配置不适当时,图像的S/N部分地恶化。多个接收线圈的几何学配置,具体地说,优选接收线圈的合成灵敏度分布覆盖摄像区域且相互间尽可能地不同,作为对其进行评价的基准,存在称为G因子(factor)的基准。G因子根据下式求得(非专利文献3)

(式1)

G={(SHψ-1S)-1(SHψ-1S)}≥1

式中,S是线圈数nc个的接收线圈在重合(overlapping)数为np时,在重合位置中的灵敏度矩阵(np×nc),上标的H是表示转置复共轭的意思。ψ是接收线圈的噪声矩阵(nc×nc)。

G因子表示在所使用的线圈结构中能使由折叠而重合的像素分离的程度,是1以上的数值。

在这样上述摄像时间缩短技术中使用的接收线圈中,副线圈的电磁耦合和G因子的改善为重要的课题。

迄今的摄像时间缩短技术,主要在高磁场的水平磁场机上进行开发,对接收线圈的构成也提出了与水平磁场机对应的各种方案。在MRI装置中,检测与静磁场方向(z方向)垂直方向的RF磁场,通常,在水平磁场机中,因为静磁场方向与被检查体的体轴方向一致,所以作为水平磁场机用的接收线圈,使用图26(A)~(C)所示的表面线圈26-1~26-10。(A)图因为存在在x方向和y方向上灵敏度分布不同的副线圈,所以将MR图像的相位编码方向选择在x方向或y方向即可分离图像的折叠。另外,(B)、(C)图因为存在在x、y、z三个方向灵敏度分别不同的副线圈,所以在相位编码方向选择为任一方向时,也能够分离图像的折叠。

另外,作为水平磁场机用的接收线圈,如图27所示,提出了不同种的线圈组合后的线圈的方案(专利文献1)。在该接收线圈中,通过将线圈27-1和27-2以相对于z轴左右对称的方式配置,由此没有电磁耦合。另外线圈27-2所生成的磁场的朝向为y方向,线圈27-1、27-3与线圈27-2重合的区域所生成的磁场的朝向主要在z方向,因此电磁耦合弱。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社日立制作所;株式会社日立医药,未经株式会社日立制作所;株式会社日立医药许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200680014055.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top