[发明专利]数字平面X射线探测器无效

专利信息
申请号: 200680014308.5 申请日: 2006-04-13
公开(公告)号: CN101166998A 公开(公告)日: 2008-04-23
发明(设计)人: L·阿尔文格;D·W·哈伯茨;H·斯托滕;S·B·沃姆 申请(专利权)人: 皇家飞利浦电子股份有限公司
主分类号: G01T1/29 分类号: G01T1/29
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 李亚非;谭祐祥
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 荷兰;NL
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 数字 平面 射线 探测器
【说明书】:

技术领域

本发明总体涉及一种X射线探测器,更具体,涉及一种具有用于降低感应噪声的配置的X射线探测器,否则该感应噪声会损害其部件的工作效率。

背景技术

敏感的电子部件,特别是用于大矩阵形配置以及集成电路中的敏感电子部件,容易受到电磁干扰的影响。电路内感生的电磁信号通常干扰敏感电子部件的工作和性能,并且降低其可靠性。EMI源发射可以是经由传导路径耦合的传导电压或电流,电流能够流过该传导路径,或者该EMI源发射可以是利用电磁波传播通过空间或材料耦合的电场或磁场。

类似的是,交变磁场会引起涉及包含大矩阵形结构的半导体的装置工作效率的严重问题,例如平面X射线探测器的工作效率。典型的探测器包括用于将X射线光子转变为可见光光子的闪烁层,以及用于将可见光光子转变为表示入射到探测器上的X射线通量的极低振幅电流的光电导体。将该极低振幅电流经由各个导体的阵列发送到用于信号处理的数据获取系统(DAS)。

非晶硅(aSi)是用于X射线用途的高度开发的光电导体。在很大面积上其非晶态都可以保持非常精细级别的均匀特性。大面积的探测器在射线照相术中十分重要,这是因为没有提供聚焦X射线的手段,由此迫使阴影X射线图像比所成像的主体部分大。对于这种大屏幕的需求以及由此带来的更复杂的电路会导致图像质量的恶化,这是由于在大面积有源矩阵阵列上的交变磁场的影响造成的。

根据法拉第定律,由于电磁感应,这些交变磁场感生电动势,并且因此在探测器电路中的封闭回路上产生电流。当上述表示入射到探测器上的X射线通量的极低振幅电流暴露于该低电平电噪声感应源时,容易受到干扰。

已知的设置中,降低由磁拾取引起的干扰的手段已经集中在有效屏蔽探测器上。美国专利No.5,499,281描述了一种用于屏蔽X射线探测器组件和使X射线探测器组件接地的装置。所提出的配置包括导电外壳,其基本上密封了该探测器组件,并且与数据获取系统(DAS)的接地面连接,而与探测器组件与DAS之间的信号和返回路径无关。

类似的是,美国专利申请公布No.2004/0154815A1公开了一种屏蔽设置,其包括“屏蔽外壳”和具有电子部件和至少两个地电势层的分层PCB。在屏蔽外壳的边缘与至少一个地电势层之间存在接地连接,以及在该屏蔽外壳内的部件与至少一个地电势层之间存在接地连接,由此使得该两个接地连接仅通过用于提供小拾取回路的至少一个地电势层彼此相连。在将屏蔽与电路的接地端分离的情况下,该“屏蔽外壳”的接地面提供了法拉第笼的一部分,其保护印刷电路板上的电路免受电磁干扰的影响。

然而,这两种已知的设置存在以下缺点,它们都需要在探测器附近加入屏蔽。屏蔽不仅会降低X射线探测器对于交变磁场的敏感度,而且其也会屏蔽掉该探测器所要探测的X射线,从而降低了该探测器工作的有效性。因此,本发明的目的是提供一种减小探测器内的电磁干扰的方法,而无需主动屏蔽探测器,否则屏蔽该探测器会降低该探测器对于入射X射线的敏感度。

发明内容

根据本发明的第一个方面,提供了一种X射线探测器,其包括至少一个用于根据入射到所述探测器上的X射线的强度生成电荷的光电导体,以及至少一个用于向所述至少一个光电导体提供输入的供应线,所述供应线的一端与基准相连,而在所述至少一个供应线的另一端不提供电连接。

因此,因为(并且优选多个中的每一个)供应线在电路中形成了开放梳状结构,与具有其中可能产生由电磁感应造成的电流的封闭回路的网状结构相反,所以相应地减少了EMI的出现。

根据本发明的第二个方面,提供了一种X射线探测器,其包括多行光电导体,这些光电导体包括两个端行和多个中间行,每行包括至少一个光电导体,每行具有与其相关的用于根据入射到所述探测器上的X射线的强度传送电荷信号的读取线,以及与公共供应线相连的公共线,对于端行和至少一个中间行,在所述公共供应线与公共基准平面之间提供永久连接。

因此,在这种情况下,通过相对于现有技术的设置减小侧向拾取回路面积,实现了上述目的。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于皇家飞利浦电子股份有限公司,未经皇家飞利浦电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200680014308.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top