[发明专利]用于将无掩模图形转移到光敏基板上的光刻方法

权利要求书

1.一种用于将图形无掩模转移到光敏基板上的光刻方法，所述方法包 括以下步骤：

通过偏移镜和投影光学部件将数字镜阵列的至少一个镜基元的辐照表 面成像到所述基板上，其中所述偏移镜沿扫描方向是可移动的；

相对于所述基板移动至少一个镜基元、成像光学部件以及通过所述偏 移镜曝光的基板表面基元以便导致所述至少一个镜基元、所述成像光学部 件以及所述基板表面基元相对于所述基板的位置的改变；

通过测量系统连续测量位置的所述改变；

在到达位置的限定改变之后产生触发信号；

通过沿射线的路径的所述偏移镜的位置的改变将所述曝光的基板表面 基元复位到起始位置上，其中通过所述触发信号触发所述复位操作；

重复上述过程直到所述偏移镜的复位潜力被消耗；

关闭所述数字镜阵列的镜基元，其中所述关闭中断所述基板表面基元 的曝光；

将所述偏移镜复位到偏移镜起始位置；

为了继续所述基板表面基元的曝光沿扫描方向准备镜基元；

测量在所述准备的镜基元与所述基板表面基元之间的覆盖位置并且当 到达希望的覆盖时产生第二触发信号；以及

通过所述第二触发信号开启所述准备的镜基元并继续所述曝光。

2.根据权利要求1的光刻方法，其中通过压电致动器改变沿所述射线 的路径的所述偏移镜的位置。

3.根据权利要求1的光刻方法，还包括沿垂直于所述扫描方向并平行 于所述光敏基板的表面的方向移动所述曝光的基板表面基元。

4.根据权利要求3的光刻方法，其中通过沿垂直于所述扫描方向并平 行于所述光敏基板的表面的方向改变沿所述射线的路径的所述偏移镜的 位置来执行所述曝光的基板表面基元的所述移动。

5.根据权利要求4的光刻方法，其中通过压电致动器执行所述改变。

6.根据权利要求1的光刻方法，其中沿所述扫描方向和垂直于所述扫 描方向并平行于所述光敏基板的表面的方向的所述基板表面基元的移动 为所述基板表面基元的边长的任意倍。

7.根据权利要求6的光刻方法，其中沿所述扫描方向和垂直于所述扫 描方向并平行于所述光敏基板的表面的方向的所述基板表面基元的移动 为所述基板表面基元的边长的二分之一倍。

8.根据权利要求7的光刻方法，其中曝光新的基板表面，其中所述新 的基板表面大于两个基板表面基元。

9.根据权利要求8的光刻方法，其中所述新的基板表面的边缘位于为 所述基板表面基元的边长的一半的栅格上。

10.根据权利要求9的光刻方法，其中在第一曝光循环期间，通过所 述镜基元在所述新的基板表面内曝光所述基板表面基元，通过沿所述扫描 方向或垂直于所述扫描方向并平行于所述光敏基板的表面的方向未移动 的所述偏移镜将其投影到所述基板上。

11.根据权利要求10的光刻方法，其中在第二曝光循环期间，通过所 述镜基元曝光所述新的基板表面的仍未曝光的部分，所述镜基元曝光基板 表面基元，其中所述基板表面基元的位置通过沿所述扫描方向和垂直于所 述扫描方向并平行于所述光敏基板的表面的方向的所述偏移镜的偏移而 沿所述扫描方向和所述垂直于所述扫描方向并平行于所述光敏基板的表 面的方向均移动了所述基板表面基元的所述边长的一半。