[发明专利]图案形成方法

权利要求书

1.一种图案形成方法，其特征在于，

使用具有支承体和在该支承体上的至少在350～500nm下显示感光特性的感光层，且能量敏感度为1～20mJ/cm²的图案形成材料，

在具有380～500nm的波长区域且该波长区域内的至少一个波长的能量强度在1×10^-2μW/cm²/nm以下的光源下，进行向基材表面叠层感光层的叠层工序、和该叠层工序至曝光前的工序中的至少一工序。

2.根据权利要求1所述的图案形成方法，其中，

380～500nm的波长区域中的每1nm的能量累积量满足下述数学式1，

<数学式1>

logY≤0.0510X-22.0042

其中，上述数学式1中，Y表示能量累积量(mJ/cm²/nm)，X表示波长(nm)。

3.根据权利要求1～2中任意一项所述的图案形成方法，其中，

对叠层在基材表面上的感光层进行曝光并显影。

4.根据权利要求1～3中任意一项所述的图案形成方法，其中，

利用具有n个接受并射出来自光照射机构的光的描绘部的光调制机构，使来自所述光照射机构的光调制后，使所述光通过排列有具有可对由所述描绘部中的射出面的变形而导致的像差进行修正的非球面的微透镜的微透镜阵列，对感光层进行曝光并显影。

5.根据权利要求1～3中任意一项所述的图案形成方法，其中，

利用具有n个接受并射出来自光照射机构的光的描绘部的光调制机构，使来自所述光照射机构的光调制后，使所述光通过排列有具有不使来自所述描绘部的周边部的光入射的透镜开口形状的微透镜的微透镜阵列，对感光层进行曝光并显影。

6.根据权利要求5所述的图案形成方法，其中，

微透镜阵列具有可对由描绘部中的射出面的变形而导致的像差进行修正的非球面。

7.根据权利要求4～6中任意一项所述的图案形成方法，其中，

非球面为复曲面。

8.根据权利要求4～7中任意一项所述的图案形成方法，其中，

光调制机构可根据图案信息对n个描绘部中的连续配置的任意的少于n个的所述描绘部进行控制。

9.根据权利要求4～8中任意一项所述的图案形成方法，其中，

光调制机构是空间光调制元件。

10.根据权利要求9所述的图案形成方法，其中，

空间光调制元件是数字微反射镜设备(DMD)。

11.根据权利要求1～10中任意一项所述的图案形成方法，其中，

曝光通过孔阵列进行。

12.根据权利要求1～11中任意一项所述的图案形成方法，其中，

使曝光光与感光层进行相对地移动的同时进行曝光。

13.根据权利要求1～12中任意一项所述的图案形成方法，其中，

进行显影后，进行永久图案的形成。

14.根据权利要求13所述的图案形成方法，其中，

永久图案是布线图案，该永久图案的形成通过蚀刻处理及镀敷处理的至少任意一种进行。

15.根据权利要求1～14中任意一项所述的图案形成方法，其中，

光照射机构可以合成2种以上的光进行照射。

16.根据权利要求1～15中任意一项所述的图案形成方法，其中，

光照射机构具有多个激光器、多模式光学纤维、和对从该多个激光器分别照射的激光进行集光并与所述多模式光学纤维结合的集合光学系。

17.根据权利要求1～16中任意一项所述的图案形成方法，其中，

感光层包含粘合剂、聚合性化合物、和光聚合引发剂。