[发明专利]测量透光基板中尺寸变化的方法和装置

权利要求书

1.一种测量透光基板中尺寸变化的方法，包括：

在参考板上形成参考标记的阵列，其中不对所述参考板进行造成其尺寸变化 的处理步骤；

在所述透光基板上形成基板标记的阵列；

将所述参考板和所述透光基板层叠成使所述参考标记和所述基板标记重叠；

在处理所述透光基板之前和之后相对于所述参考标记的坐标测量所述基板标 记的坐标；以及

从在处理所述透光基板之前和之后所测量的所述基板标记的坐标之间的差异 来确定所述透光基板中的尺寸变化。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，将所述参考板和透光基板层叠发 生在处理所述透光基板之前和之后，并且还包括补偿因在处理所述透光基板之前或 之后所述透光基板相对于所述参考板的定位差异造成的所述尺寸变化的误差。

3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，将所述参考板和所述透光基板层 叠包括将所述参考标记从所述基板标记偏移使得所述参考和基板标记都可见。

4.如权利要求1所述的方法，其特征在于，测量所述基板标记的坐标包括获 取所述参考标记和基板标记的图像。

5.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述参考标记的阵列与所述基板 标记的阵列就标记分布和形状而言基本上相同。

6.一种测量透光基板中尺寸变化的系统，包括：

参考板，其中不对所述参考板进行造成其尺寸变化的处理步骤；

向所述参考板提供刚性支承的平台；

成像装置，在所述透光基板与所述参考板层叠时捕获所述参考板和所述透光 基板上的标记的图像；

定位装置，将所述成像装置置于所述平台上所需位置；以及

处理器，相对于所述参考标记的坐标测量在处理所述透光基板之前和之后所 述基板标记的坐标，并从所测量的在处理所述透光基板之前和之后所述基板标记的 坐标之间的差异来确定所述透光基板中的尺寸变化。

7.如权利要求6所述的系统，其特征在于，所述参考板具有与所述透光基板 相似的热膨胀系数。

8.如权利要求6所述的系统，其特征在于，还包括用于在所述参考板和所述 透光基板上形成标记的标记装置。

9.如权利要求6所述的系统，其特征在于，还包括用于将所述参考板夹紧到 所述平台的机构和/或用于将所述透光基板夹紧到所述参考板的机构。

10.如权利要求6所述的系统，其特征在于，还包括照明所述参考板和透光基 板上标记的一个或多个照明器。