[发明专利]具有减少缺陷的表面的微复制物品

说明书

本公开总体涉及将材料连续流延(cast)到片材上，更具体地涉及具有减少缺陷的表面且在片材的相反面上流延的图案之间具有较高配准度的物品的流延。

背景技术

在从报纸印刷到复杂电子和光学装置的制造的许多物品的制造中，需要将一些至少暂时处于液态的材料涂布到基体的相反面上。通常情况是以预订图案涂布将要涂布于基体上的材料；例如在印刷的情况下，墨水以字母和图片的图案进行涂布。在这些情况下，通常对于在基体的相反面上的图案之间的配准，至少存在最低的要求。

当该基体为电路板之类的不连续物品时，图案的涂布器通常可依赖边缘来帮助实现配准。但当基体是片材，并且不可能依赖基体的边缘在保持配准方面来周期性地参考，该问题变得比较困难。然而，即使在片材的情况下，当配准的要求不严格时，例如容许大于100微米的完全配准的偏移，用于将材料涂布控制到这种程度的机械临时措施是已知的。印刷领域充分供应能够满足这种标准的装置。

然而，在基体的相对面上具有图案的一些产品中，要求图案之间更精确的配准。在这种情况下，如果片材不处于连续移动，则已知能够将材料涂布达到这种标准的设备。而如果片材连续移动，像在例如一些类型的柔性电路中的那样，如果容许每转动图案辊，就重新设定一次图案辊以在100微米或者甚至5微米的完全配准内，则现有技术仍然给出了有关如何处理的指导。

然而，在例如光学物品中，如增亮膜，对于涂布到衬底的相对面上的光学透明的聚合体中的图案，要求在涂布到基体的相对面上的光学透明的聚合体中的图案，在工具转动中的任意点处的失配准在非常小的容限之内。迄今为止，现有技术并未记载有关如何在连续运动的片材的相反面上流延图案面，使得在100微米内配准中，图案保持连续而不间断。

在显示器上使用薄膜的一个问题是对于近距离观看的显示器，例如计算机显示器，其外观要求(cosmetic requirement)非常高。这是因为此类显示器被较长时间近距离观看，所以甚至很小的缺陷都可被肉眼发现，以至于引起观看者的分心。对此类缺陷的去除将花费大量的检验时间和材料。

缺陷具有几种不同的表现形式。存在诸如斑点、绒毛(lint)、划伤、夹杂物等物理缺陷，以及为光学现象的缺陷。最常见的光学现象中包括“浸透”。浸透在两个表面在光学上相互接触时发生，由于结构化的表面的折射特性被无效，将去除光线从一个膜传播到另一个膜时折射率的变化。“浸透”的效果是使显示屏产生花斑的和变化的外观。

数种方法已经被应用于解决显示器组件中的缺陷问题。一种方法是简单地接受采用由传统制造工艺制造的合格显示器组件的较低产量。而这在市场竞争中明显是不可取的。第二种方法是采用非常洁净和仔细的制造工序，强加严格的质量控制标准。尽管这可以提高产量，但增加生产成本以代替清洁设备和检验时的支出。另一种减少缺陷的方法是在显示器中引入漫射体，即面漫射体或体漫射体。此类漫射体可以掩饰很多缺陷，并在低附加成本下增加产量。然而，该漫射体将光线散射，降低观察者感知的轴上光线的亮度，由此减弱了效果。

发明内容

本公开的一方面涉及具有减少缺陷的表面的微复制物品。微复制物品包括含有第一和第二相反的表面的柔性基体、位于第一表面上的第一涂布微复制图案、以及位于第二表面上的第二涂布微复制图案。所述第一涂布微复制图案和第二涂布微复制图案在10微米内配准。

其中减少缺陷或减少浸透的特征包括沿第一涂布微复制图案或第二涂布微复制图案的至少选定的图案元件(pattern element)的一段的变化高度，所述变化高度包括沿至少选定的图案元件的一段设置的多个局部高度最大值和局部高度最小值。所述变化高度具有小于第一数值的局部高度最大值和局部高度最小值之间的平均高度差。在一些实施例中，第一数值在0.5-5微米的范围内。减少缺陷或减少浸透的特征包括在50-100微米范围内的沿变化高度段的局部高度最大值之间的平均间隔。

也公开了制造具有减少缺陷的表面的微复制物品的方法。所述方法包含以下步骤：提供片材状的具有第一和第二相反的表面的基体，以及将所述基体传递通过卷轴式流延设备来在第一表面上形成第一涂布的微复制图案，并在第二表面上形成第二涂布的微复制图案。所述第一涂布的微复制图案和第二涂布的微复制图案在10微米范围内配准。

定义

在本公开的上下文中，“配准”是指将片材的一个表面上的结构以限定的关系定位到同一片材的相反面上的其他结构。

在本公开的上下文中，“片材”是指在一个方向具有固定尺寸而在其垂直方向具有预定或不确定长度的一片材料。