[发明专利]含二氧化锆和氧化铝的泥釉及由此得到的成形体

权利要求书

1.一种含有至少一种氧化铝粉末和至少一种未稳定化的二氧化锆粉末的泥釉，其特征在于

a)二氧化锆粉末

i)平均颗粒直径小于300纳米，

ii)在X-射线衍射图样中仅显现单斜晶相和四方晶相，室温下四方晶相比例是20-70％，并且

iii)以泥釉总量计，二氧化锆粉末存在比例为2-20重量％；

b)氧化铝粉末

i)平均颗粒直径大于300纳米，

iii)以泥釉总量计，氧化铝粉末存在比例为80-98重量％；

c)以泥釉总量计，固体含量，即氧化铝和二氧化锆总和为50-85重量％。

2.根据权利要求1的泥釉，其特征在于所述二氧化锆颗粒的平均直径为70-200纳米。

3.根据权利要求1或2的泥釉，其特征在于所述二氧化锆粉末以聚集形式存在。

4.根据权利要求1至3中任一项的泥釉，其特征在于所述二氧化锆粉末的BET表面积是60±15平方米/克。

5.根据权利要求1至4中任一项的泥釉，其特征在于所述二氧化锆粉末没有孔隙。

6.根据权利要求1至5中任一项的泥釉，其特征在于所述氧化铝颗粒的平均直径的上限是20微米。

7.根据权利要求1至6中任一项的泥釉，其特征在于所述氧化铝颗粒粉末的BET表面积为0.1-15平方米/克。

8.根据权利要求1至7中任一项的泥釉，其特征在于粗粒部分中的α-氧化铝的含量为至少95％。

9.根据权利要求1至8中任一项的泥釉，其特征在于液相是水。

10.根据权利要求1至9中任一项的泥釉，其特征在于所述分散液含有最多10重量％的pH调节添加剂和/或表面改性添加剂。

11.制造如权利要求1至10中任一项的泥釉的方法，其特征在于

a)将二氧化锆含量为30-75重量％，且任选地含有最多10重量％的pH调节添加剂和/或表面活性添加剂，且其中颗粒的平均直径小于300纳米的二氧化锆粉末分散液

b)在分散条件下，连续地或分批地，添加至

c)氧化铝含量为70-90重量％，且任选地含有最多10重量％的pH调节添加剂和/或表面活性添加剂，且平均颗粒直径大于300纳米的氧化铝粉末的分散液中，

d)其中，选择氧化铝和含二氧化锆的量，使得二氧化锆与氧化铝的比例为2∶98-20∶80，并且

e)以泥釉总量计，固体含量，即氧化铝和二氧化锆总和为50-85重量％。

12.成形体，其包含氧化铝和二氧化锆，且二氧化锆含量为2-20重量％，其中该氧化锆

-均匀地分布于成形体中，

-在X-射线衍射图样中，显现四方和单斜晶粒，四方晶相的比例为20-70％，并且

-单斜晶粒的尺寸为20-40纳米，

-四方晶粒的尺寸为30-50纳米。

13.根据权利要求12的成形体，其特征在于所述成形体没有＜10微米的微孔。

14.制造根据权利要求12或13的成形体的方法，其特征在于

-首先在模具中浇铸根据权利要求1至11中任一项的泥釉并干燥而制得生坯体，并

-从模具移出后，将所述生坯体在1300℃-1700℃温度下，在气体环境中或在减压下煅烧。

15.权利要求1至11中任一项的泥釉用于制造工具、建材和骨植入物的用途。