[发明专利]用于红外辐射元件的反射器

权利要求书

1.一种用于红外辐射元件的反射器，所述反射器包括金属箔，该金属箔上覆盖有沉积在所述金属箔上的第一氧化物层，沉积在所述第一氧化物层上的红外反射金属层；以及沉积在所述红外反射金属层上的第二氧化物层，

其中，所述第一氧化物层用作扩散阻挡层，用于阻止所述红外反射金属层的金属扩散到所述金属箔中，并且

所述第二氧化物层用作所述红外反射金属层的保护层，用于给予所述红外反射金属层所需的热稳定性。

2.根据权利要求1所述的反射器，其中所述红外辐射元件包括红外线灯或红外线加热器。

3.根据权利要求1或2所述的反射器，其中所述反射器具有至少90％的对波长范围在1000nm至2000nm的全反射。

4.根据权利要求1所述的反射器，其中所述金属箔包括不锈钢箔。

5.根据权利要求1所述的反射器，其中所述红外反射金属包括金、铂、钯、铑或它们的合金。

6.根据权利要求1所述的反射器，其中所述第一氧化物层选自由氧化铈、氧化铝、氧化铍、氧化铬、氧化铪、氧化镁、氧化钍、氧化钇、氧化锰、氧化硅、氧化锌或氧化锆或它们的组合构成的组。

7.根据权利要求1所述的反射器，其中所述第二氧化物层选自由氧化铈、氧化铝、氧化铍、氧化铬、氧化铪、氧化镁、氧化钍、氧化钇、氧化锰、氧化硅、氧化锌或氧化锆或它们的组合构成的组。

8.根据权利要求1所述的反射器，其中所述红外反射金属层的厚度介于50和600nm之间。

9.根据权利要求1所述的反射器，其中所述第一氧化物层的厚度介于50和500nm之间。

10.根据权利要求1所述的反射器，其中所述第二氧化物层的厚度介于1和100nm之间。

11.一种与热处理之前的对波长范围为1000至2000nm的全反射相比把热处理之后的红外辐射元件的红外反射金属层对波长范围为1000至2000nm的全 反射的损耗降低到少于15％的方法，其中所述热处理包括暴露在700℃的温度下72小时，所述方法包括以下步骤：

-提供金属箔；

-在所述金属箔上沉积第一氧化物层；

-在所述第一氧化物层上沉积红外反射金属层；以及

-在所述红外反射金属层上沉积第二氧化物层，

其中，所述第一氧化物层用作扩散阻挡层，用于阻止所述红外反射金属层的金属扩散到所述金属箔中，并且

所述第二氧化物层用作所述红外反射金属层的保护层，用于给予所述红外反射金属层所需的热稳定性。

12.根据权利要求11所述的方法，其中在所述热处理之后对波长范围为1000至2000nm的全反射的损耗小于5％。

13.根据权利要求11或12所述的方法，其中所述红外辐射元件包括红外线灯或红外线加热器。

14.根据权利要求11所述的方法，其中所述金属箔包括不锈钢箔。

15.根据权利要求11所述的方法，其中所述红外反射金属包括金、铂、钯、铑或它们的合金。

16.根据权利要求11所述的方法，其中所述第一氧化物层选自由氧化铈、氧化铝、氧化铍、氧化铬、氧化铪、氧化镁、氧化钍、氧化钇、氧化锰、氧化硅、氧化锌或氧化锆或它们的组合构成的组。

17.根据权利要求11所述的方法，其中所述第二氧化物层选自由氧化铈、氧化铝、氧化铍、氧化铬、氧化铪、氧化镁、氧化钍、氧化钇、氧化锰、氧化硅、氧化锌或氧化锆或它们的组合构成的组。

18.根据权利要求11所述的方法，其中所述红外反射金属层的厚度介于50和600nm之间。

19.根据权利要求11所述的方法，其中所述第一氧化物层的厚度介于50和300nm之间。

20.根据权利要求11所述的方法，其中所述第二氧化物层的厚度介于1和100nm之间。