[发明专利]真空处理用腔室无效
| 申请号： | 200680016257.X | 申请日： | 2006-07-21 |
| 公开（公告）号： | CN101203625A | 公开（公告）日： | 2008-06-18 |
| 发明（设计）人： | 岩崎安邦;福田祥慎;宫崎修 | 申请（专利权）人： | 新明和工业株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C16/44 |
| 代理公司： | 上海新天专利代理有限公司 | 代理人： | 衷诚宣 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 真空 处理 用腔室 | ||
【权利要求书】：
1.一种真空处理用腔室，是具有多片壁构件，该壁构件的表面的一部分形成接合面，该接合面之间气密接合形成的接合部将所述多片壁构件加以接合，构成腔室主体的真空处理用腔室，其特征在于，
至少一部分所述接合部，是在所述接合面内形成沿该接合面延伸的间隙，而且该接合面的周围利用焊接气密接合形成间隙内藏型接合部。
2.根据权利要求1所述的真空处理用腔室，其特征在于，所述间隙内藏型接合部是构成所述腔室主体的屈曲部或狭部的接合部。
3.根据权利要求1或2所述的真空处理用腔室，其特征在于，所述间隙内藏型接合部是形成槽的平面状接合面接合构成的。
4.根据权利要求1或2所述的真空处理用腔室，其特征在于，所述间隙内藏型接合部是屈曲的接合面之间相互配合，在该接合面的屈曲部形成间隙的。
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