[发明专利]改性二氧化硅颗粒以及含有该颗粒的感光性组合物和感光性平版印版

说明书

技术领域

本发明涉及表面被改性的改性二氧化硅颗粒，还涉及含有该改性二氧化硅颗粒的感光性组合物和感光性平版印版。

背景技术

近年来，伴随计算机图像处理技术的进步，人们开发了通过响应数字信号的光照射直接在感光层上写入图像的方法，将该方法用于平版印版原版、无需向银盐掩模输出、可直接在感光性平版印版上形成图像的计算机直接制版(CTP)系统受到人们的关注。

CTP系统用的负型感光性平版印版例如有在支撑体上形成主要含有光固化性树脂的感光层的所谓光聚合物型。光聚合物型的感光性平版印版中，在感光层中含有的光聚合引发剂在曝光时受到激发，生成自由基，由此光固化性树脂发生交联，变得不溶解，形成图像。

但是，随着光固化性树脂交联的进一步发展，上述感光层必然收缩。由于该收缩，感光性平版印版的支撑体与感光层之间粘合性降低，印刷特性降低。因此，如日本特开平11-143082号公报所述，将二氧化硅颗粒等填充剂配合在感光层中，可以使感光层的强度提高，由此可以使感光层的收缩降低。

但是，即使使用上述填充剂，依然难以充分确保感光层与支撑体的粘合性，结果使感光性平版印版的印刷寿命降低。

发明内容

本发明针对上述现状而设。本发明的目的在于：提供抑制或降低交联时感光层的自收缩的新型填充剂，良好地保持感光性平版印版在曝光后感光层与支撑体之间的粘合性。

本发明的目的通过改性二氧化硅颗粒实现，该改性二氧化硅颗粒通过具有至少一个烯键式不饱和基团、至少一个亲水性部位和至少一个甲硅烷氧基的有机化合物进行表面改性。

上述亲水性部位优选为聚氧化烯链，还优选上述烯键式不饱和基团和上述甲硅烷氧基位于上述有机化合物的分子链两个末端。

优选上述有机化合物具有下式：

CH₂＝CH-COO-(CH₂CH₂O)_m-(CH₂CH(CH₃)O)_n-CO-X-(CH₂)_o-(CHY)_p-(CH₂)_q-Si(OR)₃

[式中，

R为C₁-C₆烷基，

X为选自-CH₂-、-O-、-S-、和-NZ-的二价有机基团(Z表示H或C₁-C₆烷基)，

Y为C₁-C₆烷基或卤素原子，

m为0-100的整数，

n为0-100的整数，

m+n为1或以上，

o为0-10的整数，

p为0-5的整数，

q为0-10的整数，

o+q为1或以上]。

本发明的改性二氧化硅颗粒优选作为填充剂配合在含有光聚合性化合物的感光性组合物中。感光性平版印版的支撑体上的感光层优选使用上述感光性组合物。

本发明的改性二氧化硅颗粒可以抑制或降低含有该颗粒的感光性组合物在交联时的收缩，因此在支撑体上具备含有该感光性组合物的感光层的感光性平版印版中，即使曝光后仍可良好地保持感光层与支撑体的粘合性。因此可以提高上述感光性平版印版的印刷寿命。

附图简述

图1是本发明的改性二氧化硅颗粒的表面改性概念图。

具体实施方式

本发明中，表面改性的二氧化硅颗粒在该技术领域中是常用的，以二氧化硅(SiO₂)为主要成分。二氧化硅颗粒的粒径通常为1nm-1000nm，优选1nm-500nm，更优选1nm-100nm的范围。二氧化硅颗粒有市售商品，例如有日产化学工业(株)制备的スノ一テツクスOL(粒径45nm的20％二氧化硅胶体水溶液)、以及MEK-ST(粒径10-20nm的30％二氧化硅胶体甲基乙基酮溶液)、日本アエロジル(株)制备AEROSIL130(粒径16nm二氧化硅)、水泽化学工业(株)制备的ミズカシルP-527U(粒径60nm二氧化硅)等。

二氧化硅颗粒中存在火成二氧化硅、沉淀二氧化硅、胶体二氧化硅等形态。其中优选使用胶体二氧化硅。

本发明中，通过具有至少一个烯键式不饱和基团、至少一个亲水性部位和至少一个甲硅烷氧基的有机化合物使二氧化硅颗粒表面改性，形成改性二氧化硅颗粒。