[发明专利]吡咯烷衍生物或其盐

权利要求书

1.以通式(I)表示的吡咯烷衍生物或其制药学上可接受的盐，

式中符号的含义如下所述，

A及B：分别独立地为-C(R⁷)(R^7a)-或-C(O)-，

R⁷及R^7a：分别独立地为-H、低级烷基、芳基或-C(O)OR⁰，

R⁰：-H或低级烷基，

X：单键、*-C(O)-、*-OC(O)-、*-N(R⁸)C(O)-或*-S(O)_n-，*表示与R¹结合的键，

R⁸：-H、低级烷基或低级亚烷基-芳基，

n：0、1或2，

R¹：-H或者分别可被取代的C_1-12烷基、低级链烯基、芳基、杂环基或环烷基，

R²及R³：分别独立地为-H、低级烷基、卤代低级烷基、-OC(O)-R⁰、环烷基、低级亚烷基-环烷基、芳基、低级亚烷基-芳基、杂环基或低级亚烷基-杂环基，R²及R³中的芳基及杂环基分别可被取代，或者，R²及R³可一体化而与它们所结合的碳原子一起形成分别可被取代的环烷基环或杂环，

R⁴：分别可被取代的芳基或杂环基，

R⁵：低级烷基或卤代低级烷基，

R⁶：-H、低级烷基或卤代低级烷基，

但是，R⁴为无取代的苯基时，R²和R³中的至少一方不为-H。

2.如权利要求1所述的化合物，其特征在于，R⁶为-H。

3.如权利要求2所述的化合物，其特征在于，R⁵为甲基。

4.如权利要求3所述的化合物，其特征在于，A和B为-CH₂-。

5.如权利要求4所述的化合物，其特征在于，R³为-H。

6.如权利要求5所述的化合物，其特征在于，R⁴为可被-O-低级烷基取代的芳基。

7.如权利要求6所述的化合物，其特征在于，R²为可被选自卤素、低级烷基及卤代低级烷基的基团取代的苯基。

8.如权利要求7所述的化合物，其特征在于，R¹-X-为HO₂C-低级亚烷基-OC(O)-，HO₂C-低级亚烷基-C(O)-，(被-CO₂H取代了的环烷基)-OC(O)-，(被-CO₂H取代了的环烷基)-C(O)-，被-CO₂H取代且还可被选自卤素、卤代低级烷基及-O-低级烷基的基团取代的苯基，(被-CO₂H取代且还可被选自卤素、卤代低级烷基及-O-低级烷基的基团取代的苯基)-OC(O)-或者(被-CO₂H取代且还可被选自卤素、卤代低级烷基及-O-低级烷基的基团取代的苯基)-NHC(O)-。