[发明专利]使用干涉激光光束的处理方法和处理装置有效
申请号: | 200680017097.0 | 申请日: | 2006-05-18 |
公开(公告)号: | CN101175599A | 公开(公告)日: | 2008-05-07 |
发明(设计)人: | 岩濑秀夫 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | B23K26/00 | 分类号: | B23K26/00;B23K26/36;B23K26/06;G02B1/11;B23K26/067;G02B5/18 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 康建忠 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 使用 干涉 激光 光束 处理 方法 装置 | ||
1.一种用于通过使用干涉激光光束对被处理物体进行处理的方法,包括以下步骤:
调节激光光束,从而在激光光束的干涉方向上传播的表面波的波长比被处理物体的表面上的激光光束的干涉节距更长;以及
处理所述被处理物体。
2.如权利要求1所述的处理方法,其中,调节将要干涉的所述激光光束的偏振、所述激光光束的波长和/或所述激光光束的交叉角度。
3.如权利要求1所述的处理方法,其中,通过调节将要干涉的激光光束的偏振来改变在所述激光光束的干涉方向上传播的所述表面波的传播方向。
4.如权利要求3所述的处理方法,其中,具有最短波长的表面波以相对于所述激光光束的干涉方向的直角进行传播。
5.如权利要求1所述的处理方法,其中,当假定所述激光光束的干涉节距是d,并且在所述被处理物体的表面上在激光光束的干涉方向上传播的表面波的数量是K”SEW时,满足以下条件表达式:
d<2п/k″SEW。
6.如权利要求2所述的处理方法,其中,所述偏振被调节为p-偏振。
7.如权利要求1所述的处理方法,其中,所述激光光束包括脉冲激光,其具有等于或大于1fs并且等于或小于1ps的脉宽。
8.如权利要求7所述的处理方法,其中,所述被处理物体经受使用所述脉冲激光的烧蚀处理。
9.如权利要求7所述的处理方法,其中,通过使用所述脉冲激光来对被处理物体的表面进行改性。
10.如权利要求1所述的处理方法,其中,所述被处理物体包括金属或半导体。
11.一种通过如权利要求1所述的使用干涉激光光束的处理方法来处理的衍射光栅。
12.一种通过如权利要求1所述的使用干涉激光光束的处理方法来处理的具有抗反射效果的微结构。
13.一种处理装置,其用脉冲激光处理被处理物体,所述脉冲激光的激光光束被划分为多个激光光束,使所述多个激光光束在被处理物体的表面上的干涉点处彼此干涉,所述处理装置包括:
波片,其可以调节所述激光光束的偏振,并被设置在朝向所述干涉点延伸的所划分的光束的各个光程上,
其中,使由所述波片调节的所述激光光束彼此干涉,以处理所述被处理物体。
14.如权利要求13所述的处理装置,其中,所述偏振被调节为p-偏振。
15.如权利要求13所述的由于干涉激光光束而导致的处理装置,其中,所述激光光束包括如下脉冲激光,该脉冲激光具有等于或大于1fs并且等于或小于1ps的脉宽。
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