[发明专利]餐具清洗机有效
申请号: | 200680017289.1 | 申请日: | 2006-05-16 |
公开(公告)号: | CN101179977A | 公开(公告)日: | 2008-05-14 |
发明(设计)人: | 为石芳正;陶山富夫;陶山浩二;野津真澄;津森卫 | 申请(专利权)人: | 星崎电机株式会社 |
主分类号: | A47L15/44 | 分类号: | A47L15/44;A47L15/42 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 温大鹏 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 餐具 清洗 | ||
技术领域
本发明涉及对容纳在清洗室内的餐具类进行清洗的餐具清洗机,特别是涉及每进行一次清洗循环、贮存在清洗水水箱内的清洗水的一部分被供给水替换这样一种类型的餐具清洗机。
背景技术
关于餐具清洗机,过去已存在根据传感器的检测值向清洗水中供给清洗剂的技术。例如,在专利文献1所公开的餐具清洗机中,是对浸泡在清洗水中的一对电极之间的导电率进行测量从而对清洗水中的清洗剂浓度进行测量的。并且,按照使清洗水中的清洗剂浓度达到一定值的要求向清洗水中供给清洗剂。
而在专利文献2所公开的餐具清洗机中,是在清洗水流通的管路中设置玻璃状的窝眼板,将窝眼板夹在中间设置发光二极管和光敏二极管。并且,以光敏二极管对发光二极管产生的光进行检测从而对清洗水的污浊度进行测量。
专利文献1:日本特开2001-139099号公报
专利文献2:日本特开2003-225191号公报
对于每进行一次清洗循环、贮存在清洗水水箱中的清洗水的一部分被替换这样一种类型的餐具清洗机来说,随着使用,其清洗水的脏污程度将逐渐增加。因此,在如专利文献1所示对清洗水中的清洗剂浓度进行测量的场合,由于电极之间的导电率会随着清洗水的脏污而变化,因而有时无法将清洗水中的清洗剂浓度调节到恰当的程度。
而在如专利文献2所示使用发光二极管和光敏二极管的场合,一旦窝眼板上附着清洗水中的污物,便无法对清洗水的污浊度进行测量。因此,即便使用这种传感器,有时也无法将清洗水中的清洗剂浓度调节到恰当的程度。
发明内容
本发明的目的是,餐具清洗机能够将清洗水中的清洗剂浓度调节到恰当的程度。
为实现上述目的,本发明是一种餐具清洗机,该餐具清洗机是下述类型:以利用贮存在清洗水水箱中的清洗水对餐具类进行清洗、并将进行清洗后的清洗水回收到该清洗水水箱的方式构成,每进行一次清洗循环,贮存在清洗水水箱中的清洗水的一部分被供给水替换,其特征是,具备向清洗水供给清洗剂的清洗剂供给装置,该清洗剂供给装置根据所述清洗循环的次数增加清洗剂的供给量。
按照这种方案,是根据清洗循环的次数增加清洗剂的供给量,因而清洗剂的供给量不受清洗水脏污的影响。因此,对于清洗水中的清洗剂浓度,能够以将餐具类清洗干净为目的调节到恰当的清洗剂浓度,能够不造成浪费地向清洗水供给清洗剂。
根据本发明,餐具清洗机能够将清洗水中的清洗剂浓度调节到恰当的程度。
附图说明
图1是对本发明实施方式所涉及的餐具清洗机进行展示的剖视图。
图2是餐具清洗机的框图。
图3是餐具清洗机所进行的清洗剂供给处理的流程图。
图4是用来对本实施方式的效果进行说明的图表。
附图标记说明
1...餐具清洗机 2...主体机箱 3...机械室 4...微计算机 5...控制面板 6...电装箱 7...清洗室 8...餐具搁架 9、12...清洗喷嘴11,13...涮洗喷嘴 14...过滤器 15...清洗水水箱 23...清洗水供给泵 28...涮洗水水箱 34...涮洗水供给泵 39...清洗剂罐 42...清洗剂供给泵 45...清洗控制功能 46...涮洗控制功能 47...清洗剂供给功能 47b...清洗剂增量供给功能 47a...清洗剂常量供给功能 48...清洗剂增量供给时机设定功能
具体实施方式
下面,参照附图就本发明实施方式所涉及的餐具清洗机进行说明。
如图1所示,餐具清洗机1具有被上下分隔的不锈钢制造的主体机箱2。在该主体机箱2的下部形成机械室3,该机械室3内容纳有内藏对餐具清洗机1的工作进行全面控制的微计算机(控制机构)4的电装箱6等。另一方面,在主体机箱2的上部形成清洗室7,并安装有用来打开和关闭该清洗室7的上下活动的门(未图示)。
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