[发明专利]生成富集组合物的方法

权利要求书

1.一种生成富集组合物的方法，所述方法包括：

(a)在初级氧化区中氧化芳族原料以形成粗制羧酸组合物；

(b)任选地，使所述粗制羧酸组合物进入液体置换区而形成浆液组合物；

(c)在结晶区中使所述浆液组合物或者所述粗制羧酸组合物结晶而形成结晶的浆液组合物；

(d)在冷却区中使所述结晶的浆液组合物冷却并任选地使其富集而形成冷却的羧酸组合物；

(e)使所述冷却的羧酸组合物、洗剂进料和任选的富集进料进入催化剂除去区而形成催化剂除去后组合物、洗剂液、催化剂富集液和任选的废弃的富集进料；和

(f)使所述催化剂除去后组合物进入富集区而形成所述富集组合物。

2.权利要求1的方法，其中所述初级氧化区包括至少一个在110℃-200℃操作的氧化反应器。

3.权利要求1的方法，其中所述芳族原料包括对二甲苯。

4.权利要求1的方法，其中所述芳族原料包括间二甲苯。

5.权利要求4的方法，其中所述粗制羧酸组合物包括间苯二甲酸。

6.权利要求3的方法，其中所述粗制羧酸组合物包括对苯二甲酸。

7.权利要求1的方法，其中所述液体置换区包括在约50℃-约200℃操作的固液分离器。

8.权利要求7的方法，其中所述固体液体置换区包括固液分离器，其选自带式过滤器、回转真空过滤机和旋转圆盘堆离心机。

9.权利要求2的方法，其中所述液体置换区包括在约50℃-约200℃操作的固液分离器。

10.权利要求1的方法，其中所述富集进料包括至少一种选自如下的化合物：对苯二甲酸、间苯二甲酸、邻苯二甲酸、苯-三羧酸异构体、苯甲酸、羟基苯甲酸异构体、羟甲基苯甲酸异构体、二羧基联苯异构体、二羧基茋异构体、三羧基联苯异构体、三羧基二苯甲酮异构体、二羧基二苯甲酮异构体、二羧基二苯乙二酮异构体、甲酰-乙酰-羟基苯甲酸异构体、乙酰-羟甲基苯甲酸异构体、a-溴-甲苯甲酸异构体、溴苯甲酸、溴-乙酸、甲苯甲醛异构体、苄醇异构体、甲基苄醇异构体和苯二醛异构体。

11.权利要求1的方法，其中所述冷却的羧酸组合物被冷却到约20℃-约90℃。

12.权利要求1的方法，其中所述冷却的羧酸组合物被冷却到约5℃-约195℃。

13.权利要求1的方法，其中所述洗剂进料的温度为约20℃-约90℃。

14.权利要求1的方法，其中所述洗剂进料的温度为约5℃-约195℃。

15.权利要求1的方法，其中液体置换区在结晶区和冷却区之间。

16.一种生成富集组合物的方法，所述方法包括：

(a)在初级氧化区中氧化芳族原料以形成粗制羧酸组合物；

(b)任选地，使所述粗制羧酸组合物进入液体置换区而形成浆液组合物；

(c)在分级氧化区中使所述浆液组合物或者所述粗制羧酸组合物氧化而形成分级氧化组合物；

(d)在冷却区中使所述分级氧化组合物冷却并任选地使其富集而形成冷却的羧酸组合物；

(e)使所述冷却的羧酸组合物、洗剂进料和任选的富集进料进入催化剂除去区而形成催化剂除去后组合物、洗剂液、催化剂富集液和任选的废弃的富集进料；和

(f)使所述催化剂除去后组合物进入富集区而形成所述富集组合物。

17.权利要求16的方法，其中所述初级氧化区包括至少一个在110℃-200℃操作的氧化反应器。

18.权利要求16的方法，其中所述芳族原料包括对二甲苯。

19.权利要求16的方法，其中所述芳族原料包括间二甲苯。

20.权利要求19的方法，其中所述粗制羧酸组合物包括间苯二甲酸。

21.权利要求18的方法，其中所述粗制羧酸组合物包括对苯二甲酸。

22.权利要求16的方法，其中所述分级氧化区包括至少一个在190℃-280℃操作的分级氧化装置。