[发明专利]记录设备、记录方法、盘制造方法和光盘记录介质无效
申请号: | 200680018231.9 | 申请日: | 2006-05-11 |
公开(公告)号: | CN101185129A | 公开(公告)日: | 2008-05-21 |
发明(设计)人: | 藤田五郎;三木刚;下马隆司;芦崎浩二;中仓雅人 | 申请(专利权)人: | 索尼株式会社 |
主分类号: | G11B7/0045 | 分类号: | G11B7/0045 |
代理公司: | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 董方源 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 记录 设备 方法 制造 光盘 介质 | ||
1.一种用于光盘记录介质的记录设备,所述介质包括至少被反射层和覆盖层所覆盖的基片并且通过在所述基片中形成的凹坑和岸台的组合而被记录以数据,所述设备包括:
激光照射装置,用于利用具有预定激光功率的激光来照射所述光盘记录介质,以将所述基片的被照射部分变形成凸起部分;以及
记录控制装置,用于控制所述激光照射装置,以使得所述光盘记录介质中的预定的凹坑或岸台被用所述具有预定激光功率的激光所照射。
2.根据权利要求1所述的记录设备,其中
所述记录控制装置控制激光照射,以使得所述凹坑是要被用所述具有预定激光功率的激光所照射的目标,并且
所述预定激光功率被设置成使得所述基片的被照射部分被变形成其中再现信号电平等同于每个岸台中的再现信号电平的凸起部分。
3.根据权利要求1所述的记录设备,其中
所述记录控制装置控制激光照射,以使得所述岸台是要被用所述具有预定激光功率的激光所照射的目标,并且
所述预定激光功率被设置成使得所述基片的被照射部分被变形成其中再现信号电平等同于每个凹坑中的再现信号电平的凸起部分。
4.根据权利要求1所述的记录设备,其中
所述光盘记录介质包括在多个预定的位置的比特写入区域,每个比特写入区域以预定的数据样式被进行记录,以使得当数据被记录时,至少一个岸台和一个凹坑被形成为与彼此相邻;并且
所述记录控制装置控制所述激光照射装置,以使得每个比特写入区域中的岸台或凹坑的边缘部分是要被用所述具有预定激光功率的激光所照射的目标。
5.根据权利要求4所述的记录设备,其中,数据是利用一个样式被记录在每个比特写入区域中的,该样式包括各自具有预定的长度或更长的相邻的岸台和凹坑。
6.根据权利要求4所述的记录设备,其中
所述记录控制装置控制所述激光照射装置,以使得每个比特写入区域中的岸台的边缘部分是要被用所述具有预定功率的激光所照射的目标,并且
所述预定激光功率被设置成使得所述基片的被照射部分被变形成其中再现信号电平等同于所述凹坑中的再现信号电平的凸起部分。
7.根据权利要求4所述的记录设备,其中
所述记录控制装置控制所述激光照射装置,以使得每个比特写入区域中的凹坑的边缘部分是要被用所述具有预定功率的激光所照射的目标,并且
所述预定激光功率被设置成使得所述基片的被照射部分被变形成其中再现信号电平等同于所述岸台中的再现信号电平的凸起部分。
8.根据权利要求4所述的记录设备,其中
所述记录控制装置控制所述激光照射装置,以使得每个比特写入区域中的凹坑的边缘部分是要被用所述具有预定功率的激光所照射的目标,并且
所述预定激光功率被设置成使得所述基片的被照射部分被变形成其中再现信号电平低于另一凹坑中的再现信号电平的凸起部分。
9.一种用于在光盘记录介质上执行记录的记录设备的记录方法,所述介质包括至少被反射层和覆盖层所覆盖的基片并且利用在所述基片中形成的凹坑和岸台的组合而被记录以数据,所述方法包括:
利用具有预定激光功率的激光来照射所述光盘记录介质中的凹坑或岸台,以将所述基片的每个被照射部分变形成凸起部分,从而重写所述数据。
10.一种制造光盘记录介质的盘制造方法,所述介质包括至少被反射层和覆盖层所覆盖的基片并且利用在所述基片中形成的凹坑和岸台的组合而被记录以数据,所述方法包括:
主盘产生步骤,产生其上利用所述凹坑和岸台的组合而记录了所述数据的主盘;
盘形成步骤,利用基于所述主盘而制作的压模来形成所述基片,并且至少将所述反射层和所述覆盖层布置在所述基片上以形成其上记录所述数据的原始数据记录盘;以及
数据重写步骤,利用具有预定激光功率的激光来照射所述原始数据记录盘中的所述凹坑或岸台,以将所述基片的被照射部分变形成凸起部分,从而重写所述数据。
11.一种光盘记录介质,包括至少被反射层和覆盖层所覆盖的基片,所述介质利用在所述基片中形成的凹坑和岸台的组合而被记录以数据,其中
所述数据是通过利用激光来照射所述基片的相应部分以将所述部分变形成凸起部分而被重写在所述基片中的所述凹坑或岸台中的。
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