[发明专利]用于制备酰化纤维素膜的方法和装置以及酰化纤维素膜无效

专利信息
申请号: 200680018524.7 申请日: 2006-05-29
公开(公告)号: CN101184598A 公开(公告)日: 2008-05-21
发明(设计)人: 大岁正明;藤田昭秀;中居真一 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: B29C47/88 分类号: B29C47/88;B29C47/14;C08J5/18;G02B5/30;B29K1/00;B29L7/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 陈平
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 用于 制备 化纤 维素膜 方法 装置 以及
【权利要求书】:

1.一种通过熔膜形成方法制备酰化纤维素膜的方法,在所述的熔膜形成方法中,将酰化纤维素树脂在挤出机中熔化,然后从模头中以片材的形式排放在移动或旋转的冷却载体上,以将其冷却和固化,该方法包括以下步骤:

用干燥机干燥所述的酰化纤维素树脂,直到所述树脂的含湿量等于或低于3000ppm;

在所述的挤出机中,在等于或高于180℃且等于或低于250℃的温度熔化所述的酰化纤维素树脂;和

将所述的酰化纤维素树脂排出到设置在等于或高于Tg-50℃且等于或低于Tg+10℃的温度的所述冷却载体上,以冷却和固化所述的酰化纤维素树脂,其中Tg表示所述树脂的玻璃化转变温度。

2.根据权利要求1所述的制备酰化纤维素膜的方法,其中用干燥机干燥的步骤是使用干燥空气进行的,所述的干燥空气设置在等于或高于Tg-50℃且等于或低于Tg的温度,并且露点为等于或高于-50℃且等于或低于-20℃。

3.根据权利要求2所述的制备酰化纤维素膜的方法,其中将用干燥机干燥的步骤进行1小时以上且10小时以下。

4.根据权利要求1所述的制备酰化纤维素膜的方法,其中用干燥机干燥的步骤是在等于或高于Tg-50℃且等于或低于Tg的温度并且在0.1至100托的减压下进行的。

5.根据权利要求4所述的制备酰化纤维素膜的方法,其中将用干燥机干燥的步骤进行1小时以上且15小时以下。

6.根据权利要求1至5任何一项所述的制备酰化纤维素膜的方法,其中将所述的酰化纤维素树脂通过过滤器过滤,然后以片材的形式从模头排放到移动或旋转的冷却载体上。

7.根据权利要求1至6任何一项所述的制备酰化纤维素膜的方法,其中所述的酰化纤维素满足下列式(1)至(3):

2.0≤X+Y≤3.0    (1)

0≤X≤2.0        (2)

1.2≤Y≤2.9      (3)

其中X表示乙酸酯基的取代度,并且Y表示丙酸酯基、丁酸酯基、戊酰基和己酰基的取代度的总和。

8.一种制备拉伸的酰化纤维素膜的方法,该方法包括:

将根据权利要求1至7中任何一项制备的未拉伸的酰化纤维素膜在该膜的纵向和横向中的至少一个方向上以1以上且2.5以下的因子拉伸。

9.一种片式偏振器,其包含至少一个根据权利要求1至7中任何一项制备的未拉伸的酰化纤维素膜的叠层。

10.一种液晶显示板用光学补偿膜,其中将根据权利要求1至7中任何一项制备的未拉伸的酰化纤维素膜用作基材。

11.一种抗反射膜,其中将根据权利要求1至7中任何一项制备的未拉伸的酰化纤维素膜用作基材。

12.一种片式偏振器,其含含至少一个根据权利要求8制备的拉伸的酰化纤维素膜的叠层。

13.一种液晶显示板用光学补偿膜,其中将根据权利要求8制备的拉伸的酰化纤维素膜用作基材。

14.一种抗反射膜,其中将根据权利要求8制备的拉伸的酰化纤维素膜用作基材。

15.一种由熔膜形成方法制备的酰化纤维素膜,在所述的熔膜形成方法中,将酰化纤维素树脂在挤出机中熔化,然后从模头中以片材的形式排放在移动或旋转的冷却载体上,以将其冷却和固化,所述的酰化纤维素膜中包含的气泡粒度等于或大于50μm的气泡的密度等于或小于10个气泡/mm2。

16.根据权利要求15所述的酰化纤维素膜,其中所述的酰化纤维素满足下列式(1)至(3):

2.0≤X+Y≤3.0    (1)

0≤X≤2.0        (2)

1.2≤Y≤2.9      (3)

其中X表示乙酸酯基的取代度,并且Y表示丙酸酯基、丁酸酯基、戊酰基和己酰基的取代度的总和。

17.一种酰化纤维素树脂,其中在通过熔膜形成方法制备酰化纤维素膜时,所述的酰化纤维素树脂的含湿量等于或低于3000ppm,在所述的熔膜形成方法中,将酰化纤维素树脂在挤出机中熔化,然后从模头中以片材的形式排放在移动或旋转的冷却载体上,以将其冷却和固化。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于富士胶片株式会社,未经富士胶片株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200680018524.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top