[发明专利]脱模膜

权利要求书

1.一种脱模膜，其特征在于：

其为在至少沿单轴向拉伸的聚酯膜的一面上依次设有涂布层、脱模层的脱模膜，所述涂布层含有铝螯合物和/或锆螯合物，脱模膜的脱模面的临界破坏负荷(CDL)为40mN以上，由二甲基甲酰胺从以180℃热处理10分钟后的脱模层表面提取的低聚物的量为1.5mg/m²以下。

2.如权利要求1所述的脱模膜，其特征在于：

涂布层还含有烷氧基硅烷低聚物。

3.如权利要求2所述的脱模膜，其特征在于：

烷氧基硅烷低聚物为下述平均组成式(1)所示的化合物，

R_kR¹_mSi(OR²)_nO_(4-k-m-n)/2    (1)

式中，R表示选自未取代或取代的烃基和芳基中的1种或2种以上的基；R¹表示含有脂肪族不饱和双键的基；R²表示碳原子数为1～3的烷基、碳原子数为2或3的酰基、或者碳原子数为3～5的烷氧基烷基；k、m和n为同时满足关系式0≤k＜1.5、0.01≤m≤1、0.5≤k+m≤1.8、0.01≤n≤2.5、1≤k+m+n≤3的数。

4.如权利要求2或3所述的脱模膜，其特征在于：

当设定涂布层中的铝螯合物和/或锆螯合物(A)的含量为W(A)(重量％)、烷氧基硅烷低聚物的含量为W(B)(重量％)时，同时满足下述式(1)和(2)，

1≤W(A)≤70     (1)

20≤W(B)≤99    (2)。

5.如权利要求1～4中任一项所述的脱模膜，其特征在于：

涂布层还含有交联剂(C)。

6.如权利要求1～5中任一项所述的脱模膜，其特征在于：涂布层还含有无机类颗粒(D)。