[发明专利]在多个工作站之间的传送腔室

权利要求书

1.一种半导体制造设备，具有借助于初级衬底处理系统连接的至少第一工作站系统和第二工作站系统，改进包括：

第一工作站系统和第二工作站系统通过包括和至少第一和第二工作站系统通信的桥接腔室的第二传输系统连接，被构造成允许至少一个衬底从那里通过，

其中桥接腔室连接到初级衬底处理系统，并形成到初级衬底处理系统的旁路。

2.根据权利要求1的制造设备，还包括：

在第一工作站系统中形成的第一传输机构，用于在第一工作站系统内传输至少一个衬底，

在第二工作站系统中形成的第二传输机构，用于在第二工作站系统内传输至少一个衬底；以及

其中第一传输机构用于将至少一个衬底从第一工作站系统传递到桥接腔室，以及第二传输机构用于将至少一个衬底从该桥接腔室传递到第二工作站系统。

3.根据权利要求1的制造设备，该桥接腔室还包括计量仪器，用于测量桥接腔室中的至少一个衬底的特征。

4.根据权利要求1的制造设备，其中桥接腔室还包括对准装置，用于将至少一个衬底记录在预定的位置。

5.根据权利要求1的制造设备，其中桥接腔室还包括阀，根据预定的循环，可操作该阀以打开和关闭连接桥接腔室与第一工作站系统和第二工作站系统的接收和分配端口，以隔离桥接腔室内的大气。

6.根据权利要求1的制造设备，其中桥接腔室还包括大气控制系统，用于控制桥接腔室的大气以形成第一和第二工作站系统之间的传递锁。

7.根据权利要求2的制造设备，其中第一传输机构形成第一工作站系统的前端装载系统的一部分。

8.根据权利要求2的制造设备，其中第二传输机构形成第二工作站系统的前端装载系统的一部分。

9.根据权利要求2的制造设备，其中第一工作站系统是具有和公共传输腔室通信的多个工艺腔室的批处理系统，以及其中第一传输机构包括放置在公共传输腔室中的传输机器人。

10.根据权利要求2的制造设备，其中第二工作站系统是具有和公共传输腔室通信的多个工艺腔室的批处理系统，以及其中第二传输机构包括放置在公共传输腔室中的传输机器人。

11.根据权利要求1的制造设备，其中所述至少第一和第二工作站系统是分别具有和公共传输腔室通信的多个工艺腔室的批处理系统，以及其中桥接腔室具有连接到形成在第一工作站系统的传输腔室中的输出端口的接收端口，并具有连接到形成在第二工作站系统的传输腔室中的输入端口的分配端口。