[发明专利]挥发性有机化合物处理装置及挥发性有机化合物的处理方法

说明书

技术领域

本发明涉及挥发性有机化合物处理装置。例如甲苯、二甲苯、苯乙烯等放出到大气中时，形成有害的有机溶剂或其它有机化合物的蒸气、即挥发性有机化合物(Volatile Organic Compounds：VOC)，本装置用于该挥发性有机化合物的分解。

背景技术

在涂敷工厂、半导体工厂、或印刷工厂等中，使用大量的有机溶剂。众所周知，从工厂排出到大气中的VOC，与太阳光、臭氧等反应，形成有害的有机性微粒子，并且使大气中的臭氧浓度增大等，对大气环境产生很不好的影响。因此，强烈要求回收VOC，使其无害化。

已往，用少的能量回收VOC并使其无害化的方法是，用无声放电使吸附在疏水性沸石上的VOC脱落、分解。例如专利文献1提出的方法是，使含有VOC的排气与粒子状的光触媒接触，吸附了VOC后，用传送带一边使光触媒移动，一边照射紫外线，进行分解·再生。

另外，专利文献2提出的方法是，使含有VOC的排气与粒子状的光触媒接触，吸附了VOC后，用传送带一边使光触媒移动，一边照射紫外线，进行分解·再生。

专利文献1：日本特开2002-126445号公报(图1、P.2～P.3)

专利文献2：日本特开2002-28445号公报(图1、P.4～P.5)

当VOC吸附体吸附饱和、不能再充分继续吸附处理对象气体中的VOC时，把这一现象称为VOC吸附体穿透。(例如见专利文献1)

使用光触媒进行有害物质分解的分解装置中，一边用运送带使从吸附层取出的小粒子光触媒移动，一边照射紫外线，进行分解·再生。这时，由于光触媒从吸附体中取出，被运送带移动，所以光触媒必须是小粒子状。

已往的用无声放电使VOC脱落、分解的方法，与用加热或光照射使VOC脱落的方法相比，可以用更少的能量进行处理，但是，由于一次处理全部的VOC，所以，对未吸附VOC的部分也要均等地放电，这样，加大了放电电流，从而增加了电源容量，使装置成本提高。

另外，由于在产生放电时也流过与不放电时相同量的气体，所以，气体中的氮和氧借助放电而反应，产生大量有害的氮氧化物(NOx)。

专利文献2揭示的方法中，作为吸附体的光触媒，从气体排出口一边朝着气体导入口附近移动，一边与气体接触，吸附了VOC后，一边被运送带移动，一边照射紫外线，进行分解·再生，所以，对未吸附VOC的光触媒不进行处理，不需要不必要的光能。

但是，该方法中，为了均匀地照射紫外线，作为吸附体的光触媒必须是小粒子状，而且必须一边使其振动一边处理。吸附体呈粒子状的状态下进行无声放电时，由于不能控制放电的间隙长，所以，存在着放电不稳定等的问题，该方法不适用于用无声放电脱落的方法。

发明内容

本发明是为了解决上述问题而作出的，其目的是提供不产生大量有害的NOx、能有效地分解VOC、装置成本低的挥发性有机化合物处理装置。

本发明的挥发性有机化合物处理装置，其特征在于，具有吸附处理室、吸附体再生处理室、和移动机构；

上述吸附处理室中，沿气体的流动方向叠层配置着吸附格框，该吸附格框具有吸附挥发性有机化合物的吸附体；

上述吸附体再生处理室中，设置着具有高压电极、接地电极和电介体的放电组件；

上述移动机构，把位于气体上游方向的上述吸附格框移动到上述吸附体再生处理室，把上述吸附体再生处理室内的上述吸附格框移动到气体的下游方向。

本发明的挥发性有机化合物处理装置，由于具有吸附处理室、吸附体再生处理室、和移动机构；上述吸附处理室中，沿气体的流动方向叠层配置着吸附格框，该吸附格框具有吸附挥发性有机化合物的吸附体；上述吸附体再生处理室中，设置着具有高压电极、接地电极和电介体的放电组件；上述移动机构，把位于气体上游方向的上述吸附格框移动到上述吸附体再生处理室，把上述吸附体再生处理室内的上述吸附格框移动到气体的下游方向。所以，吸附了挥发性有机物的吸附体之中，只是挥发性有机物的浓缩率高的吸附体得到再生，可有效地分解挥发性有机物。

附图说明

图1是说明本发明实施形态1中的挥发性有机化合物处理装置的构造的图。

图2是说明本发明实施形态1中的挥发性有机化合物处理装置的构造的图。

图3是说明本发明实施形态1中的吸附组件的构造的图。

图4是说明本发明实施形态1中的放电组件的构造的图。

图5是说明本发明实施形态1中的挥发性有机化合物处理装置的吸附组件再生时的构造的图。