[发明专利]图像曝光设备

权利要求书

1.一种图像曝光设备，包括：

空间光调制元件，在所述空间光调制元件中，设置用于根据控制信号独立地调制照射到其上的光的多个像素部；

光源，用于将光照射到空间光调制元件上；以及

聚焦光学系统，用于将由经过调制的光承载的图像聚焦到感光材料上，所述聚焦光学系统包括：光学系统，用于聚焦已经被空间光调制元件的每个像素部调制的光束，以便聚焦每个像素部的图像；以及微透镜阵列，在所述微透镜阵列中，设置多个微透镜，由像素部调制并通过光学系统的光束独立地进入所述多个微透镜；

所述微透镜阵列被设置在像素部的图像被光学系统聚焦的位置附近；以及

所述微透镜阵列的每个微透镜在垂直于进入其中的光束的光轴的平面内的两个方向上具有不同的光焦度，以便修正由于像素部的各向同性的畸变造成的像差。

2.一种图像曝光设备，包括：

空间光调制元件，在所述空间光调制元件中，设置用于根据控制信号独立地调制照射到其上的光的多个像素部；

光源，用于将光照射到空间光调制元件上；以及

聚焦光学系统，用于将由经过调制的光承载的图像聚焦到感光材料上，所述聚焦光学系统包括：光学系统，用于聚焦已经被空间光调制元件的每个像素部调制的光束，以便聚焦每个像素部的图像；以及微透镜阵列，在所述微透镜阵列中，设置多个微透镜，由像素部调制并通过光学系统的光束独立地进入所述多个微透镜；

所述像素部在垂直于光束的光轴的平面内的两个方向上具有不同符号的光焦度；

所述微透镜阵列被设置在从由像素部的图像被光学系统聚焦的位置上偏移的分离的会聚位置上；以及

所述微透镜阵列的每个微透镜在垂直于进入其中的光束的光轴的平面内的两个方向上具有不同的光焦度，以便修正由于像素部的不同符号的光焦度造成的像差。

3.一种图像曝光设备，包括：

空间光调制元件，在所述空间光调制元件中，设置用于根据控制信号独立地调制照射到其上的光的多个像素部；

光源，用于将光照射到空间光调制元件上；以及

聚焦光学系统，用于将由经过调制的光承载的图像聚焦到感光材料上，所述聚焦光学系统包括：光学系统，用于聚焦已经被空间光调制元件的每个像素部调制的光束，以便聚焦每个像素部的图像；以及微透镜阵列，在所述微透镜阵列中，设置多个微透镜，由像素部调制并通过光学系统的光束独立地进入所述多个微透镜；

所述像素部在垂直于光束的光轴的平面内的两个方向上具有相同符号和不同幅度的光焦度；

所述微透镜阵列被设置在从由像素部的图像被光学系统聚焦的位置上偏移的分离的会聚位置上；以及

所述微透镜阵列的每个微透镜在垂直于进入其中的光束的光轴的平面内的两个方向上具有不同的光焦度，以便修正由于像素部的不同幅度的光焦度造成的像差。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的图像曝光设备，其中：

所述微透镜是折射透镜。

5.根据权利要求1至3中任一项所述的图像曝光设备，其中：

所述微透镜是梯度折射率透镜。

6.根据权利要求1至3中任一项所述的图像曝光设备，其中：

所述微透镜是衍射透镜。

7.根据权利要求1至3中任一项所述的图像曝光设备，其中：

所述微透镜通过组合折射透镜、梯度折射率透镜和衍射透镜中至少两个而构造。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的图像曝光设备，还包括：

会聚微透镜阵列，在所述会聚微透镜阵列中，设置用于独立地会聚经由每个像素部传播到这里的光束的多个微透镜，所述会聚微透镜阵列被设置在所述像素部、所述光学系统和所述微透镜阵列的分离的会聚位置上，所述分离的会聚位置从像素部的图像通过光学系统聚焦到的位置上偏移。

9.根据权利要求8所述的图像曝光设备，其中：

所述会聚微透镜阵列配置成可沿着光束的光轴方向移动。

10.根据权利要求1至9中任一项所述的图像曝光设备，还包括：

孔阵列，在所述孔阵列中，设置用于独立地透射经由每个像素部传播到这里的光束的多个孔，所述孔阵列设置在所述像素部、所述光学系统和所述微透镜阵列的分离的会聚位置上，所述分离的会聚位置从像素部的图像通过光学系统聚焦到的位置上偏移。

11.根据权利要求1至10所述的图像曝光设备，其中：

所述空间光调制元件是数字微反射镜器件，在所述数字微反射镜器件中，微反射镜作为像素部被两维地设置。