[发明专利]用于刺绣部分的转印织后染色法的掩蔽用基布无效

专利信息
申请号: 200680019437.3 申请日: 2006-06-01
公开(公告)号: CN101189386A 公开(公告)日: 2008-05-28
发明(设计)人: 井出润也;水城俊;泷岛启介;镰田英树;杉野顺一 申请(专利权)人: 可乐丽股份有限公司
主分类号: D06P5/00 分类号: D06P5/00;D05C17/00;D06M17/00;D06P5/12;D06Q1/00
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 王健
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 用于 刺绣 部分 转印织后 染色 掩蔽 用基布
【权利要求书】:

1.水溶性掩蔽用基布,其特征在于,是将由水溶性纤维制成的支持体与水溶性薄膜贴合而成的复合片材,在利用转印对刺绣部分进行织后染色的方法中,为了防止染料向刺绣部分以外移染而使用。

2.权利要求1所述的掩蔽用基布,其特征在于,前述水溶性纤维是聚乙烯醇系纤维。

3.权利要求1或2所述的掩蔽用基布,其特征在于,前述水溶性薄膜是聚乙烯醇系薄膜。

4.权利要求1~3任一项所述的掩蔽用基布,其特征在于,前述由水溶性纤维制成的支持体的单位面积重量是10g/m2以上。

5.刺绣布的制造方法,其特征在于,包括:

将权利要求1~4任一项所述的掩蔽用基布介由其支持体重叠在刺绣用基布上的工序,

在将该掩蔽用基布与该刺绣用基布重叠的状态下实施刺绣的工序,

采用热转印或压敏转印对刺绣部分进行织后染色的工序,和将该掩蔽用基布溶解于水中而除去的工序。

6.刺绣布,其特征在于,采用权利要求5所述的制造方法制得。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于可乐丽股份有限公司,未经可乐丽股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200680019437.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top