[发明专利]曝光装置及曝光方法

权利要求书

1.一种曝光装置，其特征是，具备：

光源，用于射出曝光光；

空间光调制机构，二维状排列有多个像素部，基于图像信号对从所述光源入射到所述多个像素部的曝光光按所述每个像素部进行空间光调制；

远心光学机构，其被配置在入射到该空间光调制机构的所述曝光光的光路上，使所述曝光光的主光线平行。

2.如权利要求1所述的曝光装置，其特征是：具备微透镜阵列，其按与所述多个像素部对应的间距二维状排列有多个微透镜，用每个所述微透镜对已由所述像素部进行空间光调制的曝光光进行聚光。

3.如权利要求1或2所述的曝光装置，其特征是：所述曝光光相对于所述空间光调制机构的照射面被倾斜入射。

4.如权利要求3所述的曝光装置，其特征是：所述空间光调制机构是反射型的空间光调制机构。

5.一种曝光方法，其特征是：

对由远心光学系统使主光线平行的曝光光基于图像信号进行空间光调制，将该空间光调制过的曝光光投影在感光材料上。