[发明专利]放射线敏感性树脂组合物、叠层体及其制造方法

权利要求书

1.一种放射线敏感性树脂组合物，该组合物包含：

环烯烃类聚合物、

放射线敏感性化合物、以及

相对于100重量份所述环烯烃类聚合物为10～60重量份的烷氧基硅烷化合物。

2.按照权利要求1所述的放射线敏感性树脂组合物，其还含有交联剂。

3.按照权利要求1或2所述的放射线敏感性树脂组合物，其中，环烯烃类聚合物含有质子性极性基团。

4.按照权利要求1～3中任意1项所述的放射线敏感性树脂组合物，其中，烷氧基硅烷化合物含有与质子性极性基团反应的官能团。

5.一种叠层体制造方法，该方法包括：使用权利要求1～4中任意1项所述的放射线敏感性树脂组合物，在基板上形成树脂膜的工序。

6.按照权利要求5所述的叠层体制造方法，该方法还包括：

对树脂膜照射活性放射线，在树脂膜中形成潜像图案的工序、以及

通过使树脂膜接触显影液，使潜像图案显影，将树脂膜图案化的工序。

7.按照权利要求6所述的叠层体制造方法，该方法还包括：加热形成在基板上的图案化树脂膜，使图案形状变形的工序。

8.按照权利要求5～7中任意1项所述的叠层体制造方法，该方法还包括将形成在基板上的树脂膜交联的工序。

9.一种叠层体，其是在基板上叠层由权利要求1～4中任意1项所述的放射线敏感性树脂组合物制成的树脂膜而形成的。

10.按照权利要求9所述的叠层体，其中，树脂膜是图案化的树脂膜。

11.一种电子部件或光学部件，其包括权利要求9或10所述的叠层体。