[发明专利]光记录介质和光记录方法

权利要求书

1.一种光记录方法，包括以下步骤：

照射光到包括具有导向槽的基底和在该基底上的相变记录层的光记录介质上，和

从光的入射方向观测，对应于该槽的凸起部分或凹入部分的任一种，在该相变记录层上记录非晶相的标记和晶相的间隙，

其中，通过标记长度记录法记录信息，将标记和间隙的临时长度表示为nT，

其中T表示基准时钟周期，且n表示自然数；

所述间隙至少由照射功率P_e的擦除脉冲形成；

所有长度为4T或更大的标记由交替照射功率P_w的加热脉冲和功率P_b的冷却脉冲且P_w＞P_b的多脉冲形成；并且

P_e和P_w满足下式：

0.15≤P_e/P_w≤0.4，且

0.4≤τ_w/(τ_w+τ_b)≤0.8，

其中，τ_w表示加热脉冲的长度之和，且τ_b表示冷却脉冲的长度之和。

2.一种光记录方法，包括以下步骤：

照射光到包括具有导向槽的基底和该基底上的相变记录层的光记录介质上，和

从光入射方向观测，对应于该槽的凸起部分或凹入部分的任一种，在该相变记录层上记录非晶相的标记和晶相的间隙，

其中，通过标记长度记录法记录信息，将标记和间隙的临时长度表示为nT，

其中T表示基准时钟周期，且n表示自然数；

所述间隙至少由照射功率P_e的擦除脉冲形成，且所述标记由照射功率P_w的加热脉冲形成，并且P_w＞P_b；

并且P_e和P_w满足下式：0.15≤P_e/P_w≤0.5。

3.根据权利要求1-2任一项所述的光记录方法，

其中，当用波长640nm至660nm的激光束进行记录和再现时，在相对基准速度的10x速度或更快下进行记录，以及

当用波长400nm至410nm的激光束进行记录和再现时，在相对基准速度的4x速度或更快下进行记录。

4.根据权利要求1-3任一项所述的光记录方法，

其中，进行记录，使得径向上两相邻道上标记间的平均最小距离大于道间距的一半。

5.根据权利要求1-4任一项所述的光记录方法，

其中，最长标记的调制M满足下式：0.35≤M≤0.60。

6.一种用于根据权利要求1-5任一项所述的光记录方法中的光记录介质，

其中将与所述光记录方法相关的信息预先记录在所述光记录介质的基底上。

7.一种光记录介质，包括：

具有导向槽的基底，和

在该基底上的相变记录层，

其中所述光记录介质的旋转线速度是变量，对应于用拾取头通过在光记录介质上照射连续光所测得的反射率开始降低的位置的过渡线速度为5米/秒至35米/秒；且

所述相变记录层包括由下列组成式(1)所表示的相变材料：

(Sb_100-xIn_x)_100-yZn_y    ...组成式(1)

其中，在组成式(1)中，x和y表示各个元素的原子百分比；10原子％≤x≤27原子％，且1原子％≤y≤10原子％。