[发明专利]正型抗蚀剂组合物以及抗蚀剂图案形成方法

权利要求书

1.一种正型抗蚀剂组合物，其中含有一种具有酸离解性溶解抑制基、且可通过酸的作用使碱可溶性增大的树脂成分(A)，以及可通过曝光产生酸的酸发生剂成分(B)；

上述酸发生剂成分(B)含有由下述通式(B1)表示的酸发生剂(B1)：

【化1】

式中，R⁵¹表示直链、支链或环状的烷基、或者直链、支链或环状的氟代烷基；R⁵²为氢原子、羟基、卤素原子、直链、支链或环状的烷基、直链或支链状的卤代烷基、或者直链或支链状的烷氧基；R⁵³为可具有取代基的芳基；n为1～3的整数。

2.按照权利要求1中所述的正型抗蚀剂组合物，其中，上述(B)成分中还含有除了上述(B1)成分以外的酸发生剂(B2)。

3.按照权利要求1中所述的正型抗蚀剂组合物，其中还含有含氮有机化合物(D)。

4.按照权利要求2中所述的正型抗蚀剂组合物，其中还含有含氮有机化合物(D)。

5.一种抗蚀剂图案形成方法，其中包括使用权利要求1～4任一项中所述的正型抗蚀剂组合物，在基板上形成抗蚀剂膜的工序；对上述抗蚀剂膜选择性地曝光的工序；对上述抗蚀剂膜进行碱性显影，形成抗蚀剂图案的工序。