[发明专利]环氧硅烷低聚物以及包含它们的涂料组合物

权利要求书

1.一种制备环氧硅烷低聚物的方法，该方法包括：

在催化剂的存在下，使具有2或3个烷氧基的环氧丙氧基硅烷和/或脂环族环氧硅烷和任选的不同于环氧丙氧基硅烷及脂环族环氧硅烷的可共聚性硅烷与少于1.5当量的水进行反应，其中在反应期间连续地供给所述水。

2.权利要求1的方法，其中硅烷的反应是在无醇溶剂的存在下进行的。

3.权利要求1的方法，其中环氧丙氧基硅烷是选自γ-环氧丙氧丙基三甲氧基硅烷、γ-环氧丙氧丙基三乙氧基硅烷和γ-环氧丙氧丙基甲基二乙氧基硅烷中的至少一种；脂环族环氧硅烷是选自β-(3，4-环氧环己基)-乙基三甲氧基硅烷和β-(3，4-环氧环己基)-乙基三乙氧基硅烷中的至少一种；并且，任选的不同于环氧丙氧基及脂环族环氧硅烷的可共聚性硅烷是选自乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、乙烯基甲基二甲氧基硅烷、乙烯基三异丙氧基硅烷、辛基三乙氧基硅烷、丙基三乙氧基硅烷、丙基三甲氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、聚环氧烷基三甲氧基硅烷、甲基丙烯酰基三甲氧基硅烷、甲基丙烯酰基三乙氧基硅烷和甲基丙烯酰基三异丙氧基硅烷中的至少一种。

4.权利要求1的方法，其中约0.4至约1.0当量的水进行了反应。

5.权利要求1的方法，其中少于约0.5当量的水进行了反应。

6.权利要求2的方法，其中无醇溶剂是选自丙酮、甲苯、脂族烃、链烷烃、芳烃、酮和酯中的至少一种。

7.权利要求1的方法，还包括连续地除去在反应期间生成的副产物醇。

8.权利要求1的方法，其中催化剂是选自与陶瓷、硅胶、沉淀或气相二氧化硅、氧化铝或硅酸铝中至少之一反应的如下至少一种：离子交换树脂、钛酸盐、路易斯酸、锆酸盐、烷基铵盐、季铵官能性硅烷。

9.由权利要求1的方法制备的环氧硅烷低聚物。

10.由权利要求2的方法制备的环氧硅烷低聚物。

11.由权利要求3的方法制备的环氧硅烷低聚物。

12.由权利要求7的方法制备的环氧硅烷低聚物。

13.由权利要求8的方法制备的环氧硅烷低聚物。

14.一种涂料组合物，其包含权利要求1的环氧硅烷低聚物。

15.一种涂料组合物，其包含权利要求1的环氧硅烷低聚物作为偶联剂、交联剂或粘合促进剂。

16.一种水性涂料组合物，其包含：

a)粒状金属；

b)表面活性剂；

c)权利要求1的环氧硅烷低聚物；

d)水；和

e)选自pH调节剂、共溶剂和环氧硅烷单体的一种或多种任选成分。

17.权利要求16的水性涂料组合物，其中粒状金属的存在量为约0.1至约80重量％；表面活性剂的存在量为约0.05至约10重量％；环氧硅烷低聚物的存在量为约0.1至约30重量％；水的存在量为约5至约99重量％；任选的pH调节剂若存在时其量足以提供约4至约6的pH值；任选的共溶剂若存在时其量为约0.1至约60重量％；和，任选的硅烷单体若存在时其量多达约10重量％。