[发明专利]用于测量位移的光谱分布的光谱设备

权利要求书

1.一种测量光束至少两种光谱学上位移的光谱分布的光谱设备，所述设备包括：

·色散元件，所述色散元件当被光束照射时，适用于产生所述光束中光谱分量的空间色散；

·检测器，适用于测量至少一部分所述色散光谱分量的强度；

特征在于，所述设备还包括：

·光学位移装置，适用于以至少两种不同方式照射所述色散元件，使所述光束不同地投射在所述色散元件上，从而使所述色散元件产生所述光束中光谱分量的至少两种空间上位移的空间色散。

2.按照权利要求1的光谱设备，特征在于，所述光学位移装置包括：光学开关、第一光路、和第二光路，这里，所述光学开关适用于接收所述光束并适用于引导所述光束进入所述第一光路或进入所述第二光路，所述第一光路适用于按第一方式照射所述色散元件，而所述第二光路适用于按第二方式照射所述色散元件。

3.按照权利要求2的光谱设备，特征在于，所述第一光路包括：被所述光束照射的第一狭缝、从所述第一狭缝接收所述光束的第一准直装置，这里，所述第一准直装置适用于把所述光束准直，使所述第一方式中的所述色散元件，被第一准直光束照射。

4.按照权利要求2或3的光谱设备，特征在于，所述第二光路包括：被所述光束照射的第二狭缝、从所述第二狭缝接收所述光束的第二准直装置，这里，所述第二准直装置适用于把所述光束准直，使所述第二方式中的所述色散元件，被第二准直光束照射。

5.按照前面权利要求1-4任一项的光谱设备，特征在于，所述设备还包括聚焦装置，适用于把所述至少两种空间上位移的空间分布的至少一部分，聚焦在所述检测器上。

6.按照前面权利要求1-5任一项的光谱设备，特征在于，所述检测器是包括许多光电检测器的检测器。

7.按照权利要求5和6的光谱设备，特征在于，所述聚焦装置还适用于把所述两种空间上位移的空间分布的至少一部分，聚焦在许多所述光电检测器上，使当以不同方式照射所述色散元件时，每一光电检测器被不同的光谱分量照射。

8.一种分析从样品收集的光束的探测系统，特征在于，所述探测系统包括权利要求1-7说明的光谱设备。

9.按照权利要求8的探测系统，特征在于，所述探测系统还包括用于照射所述样品的光源。

10.按照权利要求9或10的探测系统，特征在于，所述探测系统还包括光学探针，适用于从样品收集光，并适用于优点所述光束进入权利要求1-7说明的所述光谱设备。

11.按照前面权利要求8-10任一项的探测系统，特征在于，所述探测系统还包括处理装置和储存装置，所述处理装置适用于把所述光谱设备测量的光谱学上位移的光谱分布，储存在所述储存装置中。

12.按照前面权利要求8-11任一项的探测系统，特征在于，所述处理装置还适用于用所述光谱学上位移的光谱分布，实施SSRS方法。

13.一种测量光束中至少两种光谱位移的光谱分布的方法；所述方法包括如下步骤：

·用所述光束按第一方式照射色散元件，产生所述光束中光谱分量的第一空间色散；

·用检测器检测至少一部分所述第一空间色散的强度；

特征在于，所述方法还包括如下步骤：

·用所述光束按第二方式照射色散元件，产生所述光束中光谱分量的第二空间色散；

·用检测器检测至少一部分所述第二空间色散的强度。