[发明专利]用于真空开关的触头装置无效
| 申请号： | 200680020635.1 | 申请日： | 2006-05-31 |
| 公开（公告）号： | CN101194332A | 公开（公告）日： | 2008-06-04 |
| 发明（设计）人： | 尼尔斯·安杰;罗曼·伦兹;安德烈亚斯·斯特尔泽 | 申请（专利权）人： | 西门子公司 |
| 主分类号： | H01H33/66 | 分类号： | H01H33/66 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 郝俊梅;谢强 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 真空开关 装置 | ||
1.一种用于真空开关的触头装置，其具有沿纵向可相对运动地设置并且设有用于产生径向磁场的缝隙(6)的盆形触头(1)，所述触头分别具有带有侧壁(5)的触头支座(2)和底部区段(4)，所述侧壁(5)具有朝向相对置的触头的端面(7)，其中每个触头至少局部具有防烧损的接触器件(8，14，16，17)，其特征在于，所述接触器件(8，14，16，17)至少覆盖所述端面(7)和所述对应的触头支座(2)的底部区段(4)的朝向相对置触头的内底面(4a)。
2.如权利要求1所述的触头装置，其特征在于，所述接触器件(8，14，16，17)的材料为铬铜化合物。
3.如权利要求1或2所述的触头装置，其特征在于，所述接触器件(8)为盘形接触器件(8)。
4.如权利要求3所述的触头装置，其特征在于，所述盘形接触器件(8)具有一个环形部分(10)和一个比该环形部分(10)厚度小的内凹部分(11)。
5.如权利要求4所述的触头装置，其特征在于，所述内凹部分(11)的厚度与所述环形部分(10)的相比至少小0.5mm。
6.如权利要求4或5所述的触头装置，其特征在于，所述内凹部分(11)的横截面面积小于或等于馈电部分(3)的横截面面积。
7.如权利要求3至6中任一项所述的触头装置，其特征在于，所述侧壁为空心圆柱形的以及所述盘形接触器件(8)在其背离相对置的触头的一侧具有圆柱形的隆凸(13)，该隆凸的外直径小于所述侧壁(5)的内直径。
8.如权利要求1或2所述的触头装置，其特征在于，所述接触器件(14)贴合在所述端面(7)上、所述侧壁(5)的内表面(15)上以及所述底部区段(4)的内底面(4a)上。
9.如权利要求1或2所述的触头装置，其特征在于，所述接触器件(16，17)包括用于覆盖所述端面(7)的环形部分(16)和用于覆盖所述内底面(4a)的盘形部分(17)。
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