[发明专利]通过采用进化算法的过程变化检测有效
| 申请号： | 200680021613.7 | 申请日： | 2006-06-12 |
| 公开（公告）号： | CN101218550A | 公开（公告）日： | 2008-07-09 |
| 发明（设计）人： | 贾森·普卢姆霍夫 | 申请（专利权）人： | 奥立孔美国公司 |
| 主分类号： | G05B23/02 | 分类号： | G05B23/02;H01L21/66 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 郑立;林月俊 |
| 地址： | 美国佛*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 通过 采用 进化 算法 过程 变化 检测 | ||
1.一种用于检测过程变化的方法，所述方法包括：
把衬底置于腔室中；
使所述衬底经历具有至少一个已知过程变化的过程；
在过程期间至少获得一个数据集；以及
把进化计算技术应用于至少一个数据集，以生成过程变化检测算法。
2.如权利要求1所述的方法，其中，所述过程变化检测算法被应用于未来的数据集以检测过程变化。
3.如权利要求2所述的方法，其中，所述过程变化检测算法被用在终点检测系统中。
4.如权利要求1所述的方法，其中，所述进化计算技术是遗传算法。
5.如权利要求1所述的方法，其中，所述进化计算技术采用作为信噪比度量的适应度函数。
6.如权利要求1所述的方法，其中，所述过程为等离子蚀刻过程。
7.如权利要求1所述的方法，其中，所述衬底为光掩模。
8.如权利要求1所述的方法，其中，所述衬底为半导体材料。
9.如权利要求1所述的方法，其中，所述衬底为电介质材料。
10.如权利要求1所述的方法，其中，所述衬底为导电材料。
11.如权利要求1所述的方法，其中，所述过程变化是所述衬底中的材料转变。
12.如权利要求1所述的方法，其中，所述数据集进一步包括等离子发射光谱数据。
13.如权利要求1所述的方法，其中，所述数据集进一步包括残留气体分析数据。
14.如权利要求1所述的方法，其中，所述数据集进一步包括至少一个等离子处理参数。
15.如权利要求14所述的方法，其中，所述等离子处理参数包括对等离子状态、衬底状态或者处理设备状态的测量。
16.如权利要求1所述的方法，其中，所述过程变化检测算法利用过程状态函数。
17.如权利要求1所述的方法，其中，所述过程变化检测算法利用比例系数集合。
18.如权利要求16所述的方法，其中，所述过程状态函数是在所述数据集中的所有经比例变换的元素的总和。
19.如权利要求16所述的方法，其中，将滤波器应用于所述过程状态函数的结果。
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