[发明专利]用于治疗或预防精神障碍的治疗组合

权利要求书

1.组合物，其包含：

(a)式I化合物或其可药用盐：

其中：

n是1或2；

R²和R³各自独立地是氢、甲基、乙基、2-氟乙基、2，2-二氟乙基或环丙基；

R¹各自独立地是氢、卤素、OH、低级烷基、低级烷氧基、低级卤代烷基、低级卤代烷氧基或CN；

Ar是噻吩基、呋喃基、吡啶基或苯基，其中Ar任选地被一个或多个R^x取代基所取代；

R^x各自独立地选自卤素、OH、低级烷基、低级烷氧基、低级卤代烷基、低级卤代烷氧基或CN；且

y是0-3，和

(b)抗精神病药。

2.根据权利要求1的组合物，其中R²和R³中的一个是氢且R²和R³中的另一个是氢、甲基、乙基、2-氟乙基、2，2-二氟乙基或环丙基。

3.根据权利要求2的组合物，其中R²和R³均为氢。

4.根据权利要求1的组合物，其中R²和R³均不是氢。

5.根据权利要求1至4任一项的组合物，其中y是0。

6.根据权利要求1至4任一项的组合物，其中y不是0且至少一个R¹基团是卤素。

7.根据权利要求1至4任一项的组合物，其中y是1和R¹是卤素、OH、低级烷基、低级烷氧基、三氟甲基、三氟甲氧基或CN。

8.根据权利要求7的组合物，其中y是1且R¹是氟或氯。

9.根据权利要求7的组合物，其中所述化合物具有式Ia或Ia′结构：

或其可药用盐。

10.根据权利要求1至9任一项的组合物，其中Ar是未被取代的苯基。

11.根据权利要求1至9任一项的组合物，其中Ar是在邻位具有至少一个取代基的苯基。

12.根据权利要求11的组合物，其中Ar是在邻位具有至少一个选自卤素、低级烷基、低级烷氧基或三氟甲基的取代基的苯基。

13.根据权利要求11的组合物，其中所述化合物具有式Ib或Ic结构：

或其可药用盐。

14.根据权利要求13的组合物，其中所述化合物具有式Id、Ie、If、Ig、Ih或Ii结构：

或其可药用盐。

15.根据权利要求1至9任一项的组合物，其中Ar选自：