[发明专利]光源的平面阵列所发射的收敛光线的获得有效

专利信息
申请号: 200680022965.4 申请日: 2006-07-07
公开(公告)号: CN101208594A 公开(公告)日: 2008-06-25
发明(设计)人: 里欧·鲍德温 申请(专利权)人: 伊雷克托科学工业股份有限公司
主分类号: G01N21/00 分类号: G01N21/00
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 代理人: 许静
地址: 美国奥*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 光源 平面 阵列 发射 收敛 光线 获得
【权利要求书】:

1.一种用于检查半导体的成像装置,所述成像装置包括:

一个或多个成像透镜,用于成像从物体反射的光线;

平面电路板;

第一光源,附接到所述平面电路板;

第二光源,附接到所述平面电路板;

第一菲涅耳棱镜,用于指引来自第一光源的光线从第一方向朝向所述物体;及

第二菲涅耳棱镜,用于指引来自第二光源的光线从第二方向朝向所述物体。

2.如权利要求1所述的成像装置,进一步包括:传感元件,用于接收来自一个或多个成像透镜的物体的图像。

3.如权利要求1所述的成像装置,进一步包括:光学元件,用于提高由第一菲涅耳棱镜和第二菲涅耳棱镜的至少一个所指引的光线的散度。

4.如权利要求3所述的成像装置,其中,该光学元件是从包括漫射体、负透镜、和负菲涅耳透镜的组中选择的。

5.如权利要求1所述的成像装置,进一步包括:光学元件,用于降低由第一菲涅耳棱镜和第二菲涅耳棱镜的至少一个所指引的光线的散度。

6.如权利要求5所述的成像装置,其中,该光学元件是从包括正透镜、和正菲涅耳透镜的组中选择的。

7.如权利要求1所述的成像装置,其中,第一光源和第二光源的至少一个包括发光二极管。

8.如权利要求1所述的成像装置,其中,第一光源和第二光源的至少一个包括发光二极管阵列。

9.一种暗场环灯,包括:

第一光源,用于发射第一光束;

第二光源,用于发射实质上平行于第一光束的第二光束;以及

一个或多个光学元件,用于重新指引第一光束和第二光束,使得第一光束和第二光束收敛在期望的位置。

10.如权利要求9所述的暗场环灯,其中,该第一光源和第二光源的至少一个包括一个或多个发光二极管。

11.如权利要求9所述的暗场环灯,其中,该一个或多个光学元件包括菲涅耳棱镜。

12.如权利要求11所述的暗场环灯,其中,该一个或多个光学元件被配置来提高第一光束和第二光束的至少一个的散度。

13.如权利要求12所述的暗场环灯,其中,该一个或多个光学元件还包括从漫射体、负透镜、和负菲涅耳透镜所组成的组中选择的元件。

14.如权利要求11所述的暗场环灯,其中,该一个或多个光学元件被配置来降低第一光束和第二光束的至少一个的散度。

15.如权利要求14所述的暗场环灯,其中,该一个或多个光学元件还包括从正透镜、和正菲涅耳透镜所组成的组中选择的元件。

16.如权利要求9所述的暗场环灯,其中,该一个或多个光学元件包括组合的菲涅耳透镜和菲涅耳棱镜,该菲涅耳棱镜具有变化角度的镜面。

17.如权利要求9所述的暗场环灯,还包含:电路板,第一光源和第二光源机械地耦接到该电路板的平面上。

18.一种照明物体的方法,该方法包括:

发射第一光束;

发射实质上平行于第一光束的第二光束;以及

重新指引第一光束和第二光束,使得光束收敛于选定的位置。

19.如权利要求18所述的方法,还包括:提高第一光束和第二光束的至少一个的散度。

20.如权利要求18所述的方法,还包括:降低第一光束和第二光束的至少一个的散度。

21.一个用于制造检查系统的光源,该光源系包括:

用于重新指引二个或更多实质上平行的光束朝向要成像物体的装置;及

用于改变至少一个光束的散度的装置。

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