[发明专利]用于涂覆通过亲和力－测定法用于被分析物检测的底物基质的新的设备和方法

权利要求书

1.用于涂覆用于通过亲和力-测定法检测一个或多个被分析物的底物基质的设备，其包括：

-用于接收待雾化液体的容器(“液体容器”)，其含有在至少一个所述底物基质表面所沉积的物质(化合物)以及在液体之上在操作期间形成的喷雾体积；

-用于诱导雾化工序的促动器和

-在涂覆工艺期间接收和储存底物基质的支持物，

其特征在于，底物基质与待雾化液体的表面不接触。

2.如权利要求1所述的设备，其特征在于，所述促动器用来产生超声波。

3.如权利要求1-2任一项所述的设备，其特征在于，所述促动器包括一个超声波产生器的振动片。

4.如权利要求1-3任一项所述的设备，其特征在于，所述促动器在操作期间浸入待雾化液体内。

5.如权利要求1-4任一项所述的设备，其特征在于，其还额外包括一个液滴沉降器。

6.如权利要求5所述的设备，其特征在于，液滴沉降器不能渗透水蒸气和喷雾。

7.如权利要求5所述的设备，其特征在于，液滴沉降器渗透液滴直到所限定的大小。

8.如权利要求6所述的设备，其特征在于，液滴沉降器具有凹透镜形状。

9.如权利要求7所述的设备，其特征在于，液滴沉降器包括一个细小网孔的网，后者的网目尺寸决定允许通过液滴的最大尺寸。

10.如权利要求1-9任一项所述的设备，其特征在于，其还另外包括至少一个进气口。

11.如权利要求1-10任一项所述的设备，其特征在于，其另外包括用于形成在所述底物基质的环境中所产生的并欲沉降在底物基质上的喷雾的均匀分布的设备。

12.如权利要求11所述的设备，其特征在于，所述的用于形成所产生的并在所述底物基质环境中欲沉降在底物基质上的均匀分布的喷雾的设备包括一个通风机。

13.如权利要求1-12任一项所述的设备，其特征在于，它还另外包括用于控制和/或调节待雾化液体和/或液体容器的单个或全部器壁的温度的装置。

14.如权利要求1-13任一项所述的设备，其特征在于，在涂覆工艺期间用于接收和/或储存底物基质的涂层设备的支持物是恒温的。

15.如权利要求1-14任一项所述的设备，其特征在于，它还另外包括在涂覆工艺期间用于控制和/或调节液体容器内部压力的装置。

16.如权利要求1-15任一项所述的设备，其特征在于，它还另外包括用于旋转轴向垂直于支持物平面的底物基质的装置。

17.如权利要求1-16任一项所述的设备，其特征在于，它还另外包括用于收集和用于返回/回收沉降在液体容器壁上的被雾化的液体的装置。

18.如权利要求1-17任一项所述的设备，其特征在于，它还另外包括用于便利液体容器的清洗的装置。

19.如权利要求1-18任一项所述的设备，其特征在于，它还另外包括用于控制调节和/或改变待雾化液体表面与待涂覆的底物基质表面之间距离的装置。

20.如权利要求1-18任一项所述的设备，其特征在于，底物基质实质上水平储存在支持物上。

21.如权利要求1-20任一项所述的设备，其特征在于，液体容器是封闭的，没有任选的用于气体的进口和任选的用于气体和/或喷雾的额外出口。

22.如权利要求1-21任一项所述的设备，其特征在于，待雾化液体是具有小于3cP的粘度的低粘度液体。

23.如权利要求1-22任一项所述的设备，其特征在于，待雾化液体是水溶液。

24.如权利要求1-22任一项所述的设备，其特征在于，待雾化液体是有机溶液。

25.如权利要求24所述的设备，其特征在于，待雾化液体是醇溶液。

26.如权利要求1-25任一项所述的设备，其特征在于，待涂覆的底物基质是实质上平坦的。