[发明专利]用于旋转多元荧光探测设备的阀门控制系统

权利要求书

1.一种探测设备，包括：

马达，用于旋转具有通过阀门从过程腔室分离的保持腔室的转盘；和

能源，其输出第一水平的电磁能量以确定所述转盘位置以及第二水平的电磁能量以打开所述阀门，从而允许流体从所述保持腔室流动到所述过程腔室。

2.根据权利要求1的探测设备，还包括：

传感器，其当探测到所述电磁能量时输出信号；以及

联接到所述传感器的控制单元，其中当从所述传感器接收所述信号时，所述控制单元确定所述阀门在所述转盘上的位置。

3.根据权利要求2的探测设备，其中所述转盘包括狭槽，以将所述电磁能量从所述能源传送到所述传感器。

4.根据权利要求3的探测设备，其中当所述转盘中的狭槽在所述能源和所述传感器之间对准时，所述传感器探测到来自所述能源的电磁能量。

5.根据权利要求2的探测设备，其中所述转盘包括薄片，以阻挡所述电磁能量从所述能源到达所述传感器。

6.根据权利要求5的探测设备，其中当所述转盘上的薄片未在所述能源和所述传感器之间对准时，所述传感器探测到来自所述能源的电磁能量。

7.根据权利要求3的探测设备，其中所述转盘中的狭槽为矩形、圆形、卵形、椭圆形或者不规则形状。

8.根据权利要求3的探测设备，其中所述狭槽具有在0.5和2毫米之间的直径。

9.根据权利要求2的探测设备，还包括多个阀门，

其中当从所述传感器接收所述信号时所述控制单元形成所述阀门位置的映射。

10.根据权利要求9的探测设备，其中所述控制单元基于由使用者指定的一个或者多个反应选择所述阀门中的一个或者多个以打开，并且基于所述映射将所述电磁能量对准到所述转盘上的所述选定阀门。

11.根据权利要求10的探测设备，其中所述电磁能量的脉冲加热并且打开一个或者多个阀门，以允许在所述保持腔室和所述过程腔室之间流体连通。

12.根据权利要求1的探测设备，还包括用于将所述能源对准到所述转盘上的准确位置的门架。

13.根据权利要求12的探测设备，其中所述门架将多个光学模块对准到一个或者多个过程腔室。

14.根据权利要求1的探测设备，其中所述能源是激光器。

15.根据权利要求14的探测设备，其中所述激光器产生用于确定所述转盘位置的低能量近红外光线以及用于打开所述阀门的高能量近红外光线。

16.根据权利要求1的探测设备，其中所述过程腔室保持试样和多种荧光染料。

17.根据权利要求1的探测设备，还包括多个可移除光学模块，其中所述光学模块的每个包括具有光源和透镜的光学通道，该光源被选择用于所述染料中的不同的一个，该透镜用于捕捉从所述转盘发射的荧光。

18.根据权利要求17的探测设备，其中所述能源包括在所述多个可移除模块的一个中。

19.根据权利要求1的探测设备，其中所述能源包括：

第一能源，其输出所述第一水平的电磁能量以确定所述转盘的位置；和

第二能源，其输出所述第二水平的电磁能量以确定所述转盘的位置，并且随后打开所述阀门，以允许流体从所述保持腔室流动到所述过程腔室。

20.根据权利要求19的探测设备，还包括：

探测来自所述第一能源的电磁能量的第一传感器；和

探测来自所述第二能源的电磁能量的第二传感器。

21.根据权利要求20的探测设备，其中所述转盘包括一结构，当所述转盘旋转时所述结构或者改变由所述第一传感器探测的来自所述第一能源的电磁能量的数量或者改变由所述第二传感器探测的来自所述第二能源的电磁能量的数量。

22.根据权利要求21的探测设备，其中所述结构是由所述转盘形成的狭槽、薄片或者反射材料。