[发明专利]用于控制光的形状和方向的设备

权利要求书

1.一种用于控制光的形状和方向的设备(100、201、501、601、651)，包括：

-第一透明平面衬底(203、503)以及第二透明平面衬底(205、505)，所述衬底被配置为基本垂直于入射光束(211)来设置；

-液晶层(209、506)，设置在所述第一衬底和所述第二衬底之间；

-设置在所述第一衬底上的第一透明电极图案(207、507、700、800)以及设置在所述第二衬底上的第二透明电极图案(217、509、700、800)；以及

-控制装置(103、513)，被配置为调整在所述第一和第二电极图案之间的电势差，由此配置为调整所述液晶层的折射系数。

2.根据权利要求1所述的设备，其中所述控制装置被配置为根据AC频率调整所述电势差。

3.根据权利要求1或者2所述的设备，其中所述第一电极图案与所述第二电极图案基本相同。

4.根据权利要求1至3的任一项所述的设备，其中所述第一电极图案和所述第二电极图案(207)中的任意一个包括多个六边形特征。

5.根据权利要求1至3的任一项所述的设备，其中所述第一电极图案(700、800)和所述第二电极图案(700、800)中的任意一个包括多个电极部分(701、703、705、707、801、803、805、807)，每个部分被配置为相对于电势独立地进行调整。

6.根据权利要求1至4的任一项所述的设备，其中所述第一电极图案和所述第二电极图案的任意一个基本上无特点。

7.根据权利要求1至6的任一项所述的设备，其中所述第一电极图案和所述第二电极图案的任意一个涂覆有具有高表面阻抗的层(220)。

8.根据权利要求1至7的任一项所述的设备，其中所述电极图案包括基本上处于间隔1-10μm中的空间维度特征。

9.根据权利要求1至8的任一项所述的设备，其中所述电极图案由非传导或者高表面阻抗的层所覆盖，所述层包括基本处于间隔10-100μm中的空间维度的特征。

10.根据权利要求1至9的任一项所述的设备，其中所述第一衬底和所述第二衬底由处于间隔5-50μm中的距离所分隔。

11.根据权利要求1至10的任一项所述的设备，其中所述电极由氧化铟锡所制成。

12.根据权利要求1至11的任一项所述的设备，其中处于波长范围500nm-800nm的总透射率高于80％。

13.根据权利要求1至12的任一项所述的设备，其中所述控制器被配置为以0-20V的间隔调整在所述第一和第二电极图案之间的所述电势差。

14.一种用于控制光的形状和方向的设备(601、651)，包括：根据权利要求1至13中的任一项所述的第一设备(611)，其中液晶材料沿第一定向方向(612)对准；根据权利要求1至12中的任一项所述的第二设备(613)，其中所述液晶材料沿第二定向方向(614)对准。

15.根据权利要求14所述的设备，其中所述第一定向方向基本上垂直于所述第二定向方向。

16.根据权利要求14所述的设备，其中所述第一定向方向基本上平行于所述第二定向方向，并且还包括在所述第一和第二设备之间设置的半波板(617)。

17.根据权利要求14所述的设备，其中所述第一和第二设备如此设置以便避免在透射光的强度中出现局部最大值和最小值。

18.一种光照系统(900)包括根据权利要求1至17的任一项所述的设备以及至少一个光源(107、905)。

19.根据权利要求18所述的光照系统，其中所述至少一个光源包括至少一个发光二极管，发射具有至少一种颜色的光。