[发明专利]多层构造体及其清洗方法有效
| 申请号： | 200680025075.9 | 申请日： | 2006-07-12 |
| 公开（公告）号： | CN101218375A | 公开（公告）日： | 2008-07-09 |
| 发明（设计）人： | 大见忠弘;寺本章伸;森永均;岸幸男;大泷浩通;传井美史 | 申请（专利权）人： | 国立大学法人东北大学;日本陶瓷科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C26/00 | 分类号： | C23C26/00;C23C16/40;B08B3/12;C23C28/04;C23C14/08;H01L21/3065 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 李贵亮 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 多层 构造 及其 清洗 方法 | ||
1.一种多层构造体，其具备基材和在该基材表面上形成的膜，其特征在于，在所述膜上具有0.2μm以上粒径的粒子的附着数每1mm2为2个以下。
2.根据权利要求1所述的多层构造体，其特征在于，所述基材由陶瓷、金属或者它们的复合材形成。
3.根据权利要求2所述的多层构造体，其特征在于，所述膜为陶瓷膜。
4.根据权利要求3所述的多层构造体，其特征在于，所述陶瓷膜为通过熔射在所述基材上沉积的熔射膜。
5.根据权利要求3所述的多层构造体，其特征在于，所述膜为通过CVD法在所述基材上沉积的陶瓷膜。
6.根据权利要求3所述的多层构造体，其特征在于，所述膜为通过PVD法在所述基材上沉积的陶瓷膜。
7.根据权利要求3所述的多层构造体，其特征在于，所述膜为通过溶胶凝胶法在所述基材上沉积的陶瓷膜。
8.根据权利要求3所述的多层构造体，其特征在于，所述膜为在熔射膜上通过从CVD法、PVD法以及溶胶-凝胶法中选出的至少一种的方法形成。
9.根据权利要求2所述的多层构造体，其特征在于，所述陶瓷膜的附着强度为10MPa以上。
10.一种多层构造体的清洗方法，是对具备基材和形成于该基材表面上的膜的多层构造体进行清洗的方法，其特征在于，包含通过施加5W/cm2以上低于30W/cm2的超声波，对所述膜进行清洗的工序。
11.根据权利要求10所述的多层构造体的清洗方法，其特征在于，所述超声波清洗采用喷嘴型清洗装置进行。
12.根据权利要求10或11所述的多层构造体的清洗方法，其特征在于，准备向超纯水中溶解了从氢、氨、二氧化碳中选出的气体的溶液，向该溶液施加超声波，从而进行所述超声波清洗。
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