[发明专利]芳族聚合物有效

专利信息
申请号: 200680025203.X 申请日: 2006-06-09
公开(公告)号: CN101218277A 公开(公告)日: 2008-07-09
发明(设计)人: 大内一荣;福岛大介;山田武;安立诚 申请(专利权)人: 住友化学株式会社
主分类号: C08G61/00 分类号: C08G61/00;C09K11/06;H01L51/00;H05B33/10
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 陈长会
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 聚合物
【权利要求书】:

1.一种芳族聚合物,所述芳族聚合物包含由下式(1)表示的重复单元中的至少一种:

-Ar1-(1)

其中,Ar1表示含有稠环结构的亚芳基或者含有π-共轭体系的二价杂环化合物基,并且具有连接到具有sp2杂化轨道的碳原子上的由下式(2)表示的基团,所述具有sp2杂化轨道的碳原子包含在各自都由Ar1表示的所述含有稠环结构的亚芳基或所述具有π-共轭体系的二价杂环化合物基的环结构的环中:

Ar2x1miZ2E1         (2)

(其中,E1表示氢原子、卤素原子或一价有机基团;Ar2表示具有二价π-共轭环状化合物残基的基团;两个Ar2可以彼此相同或不同;X1表示选自-NQ1-、-PQ2-和-BQ3-中的二价基团;Q1至Q3独立地表示取代基;Z表示直接键合或二价连接基团;两个Z可以彼此相同或不同;mi各自表示0或1;在存在两个X1的情况下,它们可以彼此相同或不同)。

2.根据权利要求1的芳族聚合物,其中,在由式(1)表示的重复单元中,由Ar1表示的基团具有稠环结构。

3.根据权利要求1或权利要求2的芳族聚合物,所述芳族聚合物是含有由式(1)表示的重复单元中的至少一种以及另外含有其它重复单元的共聚物。

4.根据权利要求3的芳族聚合物,其中,所述其它重复单元是选自下列式(5)至(9)中的重复单元:

——Ar4——      (5)

——Ar5——      (6)

Ar6—X2pAr7- (7)

—Ar8—X3—      (8)

——X4——       (9)

其中,Ar4表示用氢原子取代式(1)的Ar1的侧链而形成的重复单元;Ar5、Ar6、Ar7和Ar8各自独立地表示具有二价π-共轭环状化合物残基的基团;X2、X3和X4各自独立地表示二价连接基团。

5.根据权利要求1至4中任一项的芳族聚合物,其中相对于主链所拥有的由式(1)和式(5)至(9)表示的重复单元的总量,由式(1)表示的重复单元的总量为不小于11摩尔%并且不大于100摩尔%。

6.根据权利要求1或2的芳族聚合物,含有由式(1)表示的重复单元。

7.根据权利要求1至5中任一项的芳族聚合物,含有由式(1)和(5)表示的重复单元。

8.根据权利要求6或7的芳族聚合物,具有的分散度(重均分子量/数均分子量)为不小于1并且不大于12。

9.根据权利要求1至8中任一项的芳族聚合物,具有的聚苯乙烯折合的数均分子量为103至108

10.根据权利要求1至9中任一项的芳族聚合物,具有电荷迁移性质,或者在固态时具有光致发光性质。

11.一种聚合物组合物,其特征在于含有选自空穴迁移材料、电子迁移材料和发光材料中的至少一种材料以及根据权利要求1至10中任一项所述的芳族聚合物。

12.一种溶液,其特征在于含有根据权利要求1至10中任一项所述的芳族聚合物。

13.一种溶液,其特征在于含有根据权利要求11的聚合物组合物。

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